Loading article…
これは材料科学 で使用される分析方法のリストです。分析方法は、頭字語がある場合はその頭字語でリストされます。
シンボル
- μSR –ミューオンスピン分光法を参照
- χ –磁化率を参照
あ
- AAS –原子吸光分光法
- AED –オージェ電子回折
- AES –オージェ電子分光法
- AFM –原子間力顕微鏡
- AFS –原子蛍光分光法
- 分析用超遠心分離
- APFIM –原子プローブ電界イオン顕微鏡
- APS –出現電位分光法
- ARPES –角度分解光電子分光法
- ARUPS –角度分解紫外線光電子分光法
- ATR –減衰全反射法
B
- BET – BET 表面積測定(BET は Brunauer、Emmett、Teller による)
- BiFC –二分子蛍光補完
- BKD – 後方散乱菊池回折、EBSDを参照
- BRET –生物発光共鳴エネルギー移動
- BSED – 後方散乱電子回折、EBSDを参照
Ｃ
- CAICISS – 同軸衝撃衝突イオン散乱分光法
- CARS –コヒーレント反ストークスラマン分光法
- CBED –収束電子回折
- CCM –電荷収集顕微鏡
- CDI –コヒーレント回折イメージング
- CE –キャピラリー電気泳動
- CET –クライオ電子トモグラフィー
- CL –カソードルミネッセンス
- CLSM –共焦点レーザー走査顕微鏡
- COSY –相関分光法
- クライオ電子顕微鏡
- クライオSEM –クライオ走査電子顕微鏡
- CV –サイクリックボルタンメトリー
だ
- DE(T)A –誘電熱分析
- dHvA –デ・ハース・ファン・アルフェン効果
- DIC –微分干渉コントラスト顕微鏡
- 誘電分光法
- DLS –動的光散乱
- DLTS –深準位過渡分光法
- DMA –動的機械分析
- DPI –二重偏光干渉計
- DRS – 拡散反射分光法
- DSC –示差走査熱量測定
- DTA –示差熱分析
- DVS –動的蒸気吸着
え
- EBIC –電子ビーム誘起電流（IBIC: イオンビーム誘起電荷を参照）
- EBS – 弾性（非ラザフォード）後方散乱分光法（RBSを参照）
- EBSD –電子後方散乱回折
- ECOSY –排他的相関分光法
- ECT –電気容量断層撮影
- EDAX – X線のエネルギー分散分析
- EDMR –電気的に検出される磁気共鳴、ESR または EPR を参照
- EDS または EDX –エネルギー分散型 X 線分光法
- EELS –電子エネルギー損失分光法
- EFTEM –エネルギーフィルター透過型電子顕微鏡
- EID – 電子誘起脱離
- EIT と ERT –電気インピーダンス トモグラフィーと電気抵抗トモグラフィー
- EL –エレクトロルミネセンス
- 電子結晶学
- ELS –電気泳動光散乱
- ENDOR –電子核二重共鳴、ESRまたはEPRを参照
- EPMA –電子プローブマイクロ分析
- EPR –電子常磁性共鳴分光法
- ERD または ERDA –弾性反動検出または弾性反動検出分析
- ESCA –化学分析のための電子分光法（XPSを参照）
- ESD –電子刺激脱離
- ESEM –環境走査型電子顕微鏡
- ESI-MS または ES-MS –エレクトロスプレーイオン化質量分析法またはエレクトロスプレー質量分析法
- ESR –電子スピン共鳴分光法
- ESTM –電気化学走査トンネル顕微鏡
- EXAFS –拡張X線吸収微細構造
- EXSY – 交換分光法
ふ
- FCS –蛍光相関分光法
- FCCS –蛍光相互相関分光法
- FEM –電界放出顕微鏡
- FIB –集束イオンビーム顕微鏡
- FIM-AP –電界イオン顕微鏡–原子プローブ
- 流れの複屈折
- 蛍光異方性
- FLIM –蛍光寿命イメージング
- 蛍光顕微鏡
- FOSPM –特徴指向型走査プローブ顕微鏡
- FRET –蛍光共鳴エネルギー移動
- FRS – 前方反跳分光法、 ERDの同義語
- FTICR または FT-MS –フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴法またはフーリエ変換質量分析法
- FTIR –フーリエ変換赤外分光法
グ
- GC-MS –ガスクロマトグラフィー質量分析法
- GDMS –グロー放電質量分析法
- GDOS –グロー放電分光法
- GISAXS –斜入射小角X線散乱
- GIXD –斜入射X線回折
- GIXR –斜入射X線反射率
- GLC –ガス液体クロマトグラフィー
- GPC –ゲル浸透クロマトグラフィー
H
- HAADF – 高角度環状暗視野イメージング
- HAS –ヘリウム原子散乱
- HPLC –高速液体クロマトグラフィー
- HREELS –高解像度電子エネルギー損失分光法
- HREM –高解像度電子顕微鏡
- HRTEM –高解像度透過型電子顕微鏡
- HI-ERDA – 重イオン弾性反跳検出解析
- HE-PIXE – 高エネルギー陽子誘起X線放出
私
- IAES –イオン誘起オージェ電子分光法
- IBA –イオンビーム分析
- IBIC – イオンビーム誘起電荷顕微鏡
- ICP-AES –誘導結合プラズマ原子発光分光法
- ICP-MS –誘導結合プラズマ質量分析法
- 免疫蛍光法
- ICR –イオンサイクロトロン共鳴
- IETS –非弾性電子トンネル分光法
- IGA –インテリジェントな重量分析
- IGF – 不活性ガス核融合
- IIX – イオン誘起X線分析、粒子誘起X線放出を参照
- INS – イオン中和分光法
- 非弾性中性子散乱
- IRNDT –材料の赤外線非破壊検査
- IRS –赤外線分光法
- ISS –イオン散乱分光法
- ITC –等温滴定熱量測定
- IVEM –中電圧電子顕微鏡
ら
- LALLS –低角レーザー光散乱
- LC-MS –液体クロマトグラフィー質量分析法
- LEED –低エネルギー電子回折
- LEEM –低エネルギー電子顕微鏡
- LEIS –低エネルギーイオン散乱
- LIBS –レーザー誘起ブレークダウン分光法
- LOES – レーザー発光分光法
- LS –光（ラマン）散乱
ま
- MALDI –マトリックス支援レーザー脱離イオン化
- MBE –分子線エピタキシー
- MEIS – 中エネルギーイオン散乱
- MFM –磁気力顕微鏡
- MIT –磁気誘導トモグラフィー
- MPM –多光子蛍光顕微鏡
- MRFM –磁気共鳴力顕微鏡
- MRI –磁気共鳴画像
- MS –質量分析
- MS/MS –タンデム質量分析法
- MSGE –機械的刺激によるガス放出
- メスバウアー分光法
- MTA –マイクロサーマル分析
いいえ
- NAA –中性子放射化分析
- ND –中性子回折
- NDP –中性子深度プロファイリング
- NEXAFS –近端X線吸収微細構造
- NIS – 核非弾性散乱/吸収
- NMR –核磁気共鳴分光法
- NOESY –核オーバーハウザー効果分光法
- NRA –核反応分析
- NSOM –近接場光学顕微鏡
お
ポ
- PAS –陽電子消滅分光法
- 光音響分光法
- PAT または PACT –光音響断層撮影または光音響コンピュータ断層撮影
- PAX – 吸着キセノンの光電子放出
- PC または PCS –光電流分光法
- 位相差顕微鏡
- 博士号 – 光電子回折
- PD – 光脱離
- PDEIS – ポテンショダイナミック電気化学インピーダンス分光法
- PDS –光熱偏向分光法
- PED – 光電子回折
- PEELS – 並列電子エネルギー損失分光法
- PEEM –光電子放出電子顕微鏡（または光電子放出顕微鏡）
- PES –光電子分光法
- PINEM – 光子誘起近接場電子顕微鏡
- PIGE – 粒子（または陽子）誘起ガンマ線分光法、核反応分析を参照
- PIXE –粒子（または陽子）誘起X線分光法
- PL –フォトルミネッセンス
- ポロシメトリー
- 粉末回折
- PTMS –光熱顕微分光法
- PTS –光熱分光法
質問
- QENS –準弾性中性子散乱
- QCM-D –散逸モニタリング機能付き水晶振動子マイクロバランス
R
- ラマン分光法
- RAXRS –共鳴異常X線散乱
- RBS –ラザフォード後方散乱分光法
- REM –反射電子顕微鏡
- RDS –反射率差分光法
- RHEED –反射高エネルギー電子回折
- RIMS –共鳴イオン化質量分析法
- RIXS –共鳴非弾性X線散乱
- RR分光法 –共鳴ラマン分光法
S
- SAD –選択領域回折
- SAED –選択領域電子回折
- SAM –走査型オージェ顕微鏡
- SANS –小角中性子散乱
- SAXS –小角X線散乱
- SCANIIR – 中性種とイオン衝撃放射線の分析による表面組成
- SCEM –走査型共焦点電子顕微鏡
- SE –分光エリプソメトリー
- SEC –サイズ排除クロマトグラフィー
- SEIRA – 表面増強赤外吸収分光法
- SEM –走査型電子顕微鏡
- SERS –表面増強ラマン分光法
- SERRS – 表面増強共鳴ラマン分光法
- SESANS –スピンエコー小角中性子散乱
- SEXAFS –表面拡張X線吸収微細構造
- SICM –走査型イオン伝導顕微鏡
- SIL –固体浸漬レンズ
- SIM – 固体浸漬ミラー
- SIMS –二次イオン質量分析法
- SNMS – スパッタ中性種質量分析法
- SNOM –走査型近接場光学顕微鏡
- SPECT –単一光子放出コンピュータ断層撮影
- SPM –走査プローブ顕微鏡
- SRM-CE/MS – 選択反応モニタリングキャピラリー電気泳動 質量分析法
- SSNMR –固体核磁気共鳴
- シュタルク分光法
- STED –誘導放出抑制顕微鏡
- STEM –走査透過型電子顕微鏡
- STM –走査トンネル顕微鏡
- STS –走査トンネル分光法
- SXRD –表面X線回折
T
- TAT または TACT – 熱音響断層撮影または熱音響コンピュータ断層撮影（光音響断層撮影– PAT も参照）
- TEM –透過型電子顕微鏡
- TGA –熱重量分析
- TIKA – イオン運動解析の送信
- TIMS –熱イオン化質量分析法
- TIRFM –全反射蛍光顕微鏡
- TLS – 光熱レンズ分光法、光熱分光法の一種
- TMA –熱機械分析
- TOF-MS –飛行時間型質量分析法
- 二光子励起顕微鏡
- TXRF – 全反射蛍光X線分析
あなた
五
- VEDIC – ビデオ強化微分干渉コントラスト顕微鏡
- ボルタンメトリー
わ
- WAXS –広角X線散乱
- WDX または WDS –波長分散型 X 線分光法
バツ
- XAES – X線誘起オージェ電子分光法
- XANES – XANES 、 NEXAFS (近吸収端X線吸収微細構造)と同義
- XAS – X線吸収分光法
- X-CTR – X線結晶切断ロッド散乱
- X線結晶構造解析
- XDS – X線拡散散乱
- XES – X線発光分光法
- XPEEM – X線光電子放出顕微鏡
- XPS – X線光電子分光法
- XRD – X線回折
- XRES – X線共鳴交換散乱
- XRF –蛍光X線分析
- XRR – X線反射率
- XRS – X線ラマン散乱
- XRT – X線透過
- XSW – X線定在波技術