走査トンネル顕微鏡( STM )は、原子レベルで表面を画像化するために使用される走査プローブ顕微鏡の一種です。1981 年に開発されたこの顕微鏡は、当時IBM チューリッヒにいた発明者のゲルト・ビニッヒとハインリッヒ・ローラーに1986 年にノーベル物理学賞をもたらしました。 [ 1 ] [ 2 ] [ 3 ] STM は、0.01 nm (10 pm ) の深さ分解能で 0.1 nmより小さい特徴を識別できる非常に鋭利な導電性チップを使用して表面を検出します。[ 4 ]これは、個々の原子を日常的に画像化および操作できることを意味します。ほとんどの走査トンネル顕微鏡は、絶対零度に近い温度の超高真空で使用するために作られていますが、空気、水、その他の環境での研究や 1000 °C を超える温度での研究用のバリエーションも存在します。[ 5 ] [ 6 ]
STMは量子トンネル効果の概念に基づいています。探針を検査対象表面に非常に近づけると、両者の間にバイアス電圧が印加され、電子が両者を隔てる真空をトンネル効果によって通過します。結果として生じるトンネル電流は、探針の位置、印加電圧、および試料の局所状態密度(LDOS)の関数です。探針が表面を走査しながら電流を監視することで情報が取得され、通常は画像として表示されます。[ 5 ]
走査トンネル分光法として知られるこの技術の改良版は、探針を表面上の一定の位置に保持し、バイアス電圧を変化させ、結果として生じる電流の変化を記録するものです。この技術を使用すると、電子状態の局所的な密度を再構築できます。[ 7 ]これは、例えば準粒子干渉イメージングから、研究対象の材料中の電子の特性と相互作用を推測するために、高磁場および不純物の存在下で行われることがあります。
走査トンネル顕微鏡は、極めて清浄で安定した表面、鋭利な先端、優れた振動遮断、高度な電子機器を必要とするため、難しい技術となる可能性がある。それでも、多くの愛好家が独自の顕微鏡を製作している。[ 8 ]

チップは通常目視で監視される粗位置決め機構によってサンプルに近づけられます。近距離では、制御電圧によって長さを変更できる圧電スキャナチューブによって、サンプル表面に対するチップの位置を微調整できます。サンプルとチップの間にバイアス電圧が印加され、チップがトンネル電流を受け取り始めるまでスキャナが徐々に伸びます。チップとサンプル間の距離wは、チップが反発相互作用を受ける高さ( w < 3 Å)よりわずかに高いものの、引力相互作用が存在する領域(3 < w < 10 Å)内にある 4~7 Å (0.4~0.7 nm ) の範囲に維持されます。[ 5 ]トンネル電流はサブナノアンペアの範囲であるため、スキャナのできるだけ近くで増幅されます。トンネルが確立されると、実験の要件に応じてサンプルバイアスとサンプルに対するチップの位置が変更されます。
探針が離散的なx – yマトリックス内で表面上を移動すると、表面の高さと電子状態の占有率の変化によりトンネル電流が変化する。表面のデジタル画像は、2 つの方法のいずれかで形成される。一定高さモードではトンネル電流の変化が直接マッピングされるが、定電流モードではトンネル電流を所定のレベルに保ちながら探針の高さ ( z )を制御する電圧が記録される。[ 5 ]
定電流モードでは、フィードバック回路が圧電式高さ制御機構への電圧によって高さを調整します。トンネル電流が設定値以下になると、探針は試料に向かって移動し、逆に電流が増加すると探針は試料に向かって移動します。このモードは、電子回路が表面の各測定点でトンネル電流をチェックし、フィードバックループで高さを調整する必要があるため、比較的低速です。表面が原子レベルで平坦な場合、zスキャナに印加される電圧は主に局所的な電荷密度の変化を反映します。しかし、原子ステップに遭遇した場合、または再構成によって表面が座屈した場合、全体的な地形のためにスキャナの高さも変化する必要があります。探針が表面を走査する際にトンネル電流を一定に保つために必要だったzスキャナ電圧から形成される画像には、地形データと電子密度データの両方が含まれます。場合によっては、高さの変化がどちらか一方の結果として生じたのかが明確でないことがあります。
定高モードでは、スキャナーが表面上を往復運動する際にz軸スキャナーの電圧を一定に保ち、距離に指数関数的に依存するトンネル電流をマッピングします。この動作モードは高速ですが、大きな吸着分子が存在する可能性のある粗い表面や、隆起や溝のある表面では、探針が衝突する危険性があります。
探針先端のラスタースキャンは、128×128から1024×1024(またはそれ以上)のマトリックスで構成され、ラスターの各点に対して単一の値が得られます。そのため、STMによって生成される画像はグレースケールであり、重要な特徴を視覚的に強調するために、後処理でのみ色が追加されます。
試料を走査することに加えて、バイアス電圧を掃引し(微分を直接測定するために小さな交流変調も加える)、特定の場所での電流変化を測定することによって、試料内の特定の場所における電子構造に関する情報を得ることができます。[ 4 ]この種の測定は走査トンネル分光法(STS)と呼ばれ、通常、試料内の電子のエネルギーの関数として局所状態密度のプロットが得られます。状態密度の他の測定に対するSTMの利点は、極めて局所的な測定が可能であることです。たとえば、不純物サイトにおける状態密度を、不純物の周囲や表面上の他の場所における状態密度と比較することができます。[ 9 ]

走査型トンネル顕微鏡の主な構成要素は、走査チップ、圧電素子で制御される高さ(z軸)および横方向(x軸とy軸)のスキャナ、および粗動サンプルからチップへの接近機構です。顕微鏡は専用の電子機器とコンピュータによって制御されます。システムは防振システムで支えられています。[ 5 ]
チップはタングステンまたは白金イリジウム線で作られることが多いが、金も使用される。[ 4 ]タングステンチップは通常、電気化学エッチングによって作られ、白金イリジウムチップは機械的せん断によって作られる。画像の解像度は、走査チップの曲率半径によって制限される。チップの先端に複数の頂点がある場合、画像アーティファクトが発生することがある。最も頻繁に観察されるのは、2つの頂点がトンネル効果に等しく寄与する状況である、二重チップイメージングである。 [ 4 ]鋭利で使用可能なチップを得るためのいくつかのプロセスが知られているが、チップの品質の究極的なテストは、真空中でトンネル効果を起こしているときにのみ可能である。チップがすでにトンネル効果の範囲内にあるときに高電圧を印加したり、表面から原子や分子をピックアップさせたりすることで、チップを調整できる場合がある。
最新の設計のほとんどでは、スキャナは金属化された表面を持つ放射状に分極された圧電体の空洞管です。外面は4つの長い象限に分割され、xおよびyの動きの電極として機能し、反対側に2つの極性の偏向電圧が印加されます。管の材料はチタン酸ジルコン酸鉛セラミックで、圧電定数は約5 ナノメートル/ボルトです。先端は管の中心に取り付けられています。電極間のクロストークと固有の非線形性のため、動きは校正され、校正テーブルに従って独立したx、y、zの動きに必要な電圧が印加されます。 [ 5 ]
トンネル電流は電極間の距離に極めて敏感であるため、使用可能な結果を得るには、適切な振動遮断または剛性のSTM本体が不可欠です。BinnigとRohrerによる最初のSTMでは、STMを振動から守るために磁気浮上が使用されましたが、現在では機械式スプリングまたはガススプリングシステムがよく使用されています。[ 5 ]さらに、渦電流を使用した振動減衰機構が実装されることもあります。走査トンネル分光法で長時間スキャン用に設計された顕微鏡は極めて高い安定性が必要であり、無響室(音響および電磁気遮断を備えた専用のコンクリート室で、実験室内の振動遮断装置の上に浮かんでいる)内に構築されます。
サンプルに対するチップの位置を維持し、サンプルをスキャンしてデータを取得することは、コンピュータ制御で行われます。スキャンプローブ顕微鏡専用のソフトウェアが、画像処理と定量測定に使用されます。 [ 10 ]
走査型トンネル顕微鏡の中には、高フレームレートで画像を記録できるものがある。[ 11 ] [ 12 ]このような画像から作成されたビデオは、表面拡散[ 13 ]を示したり、表面上の吸着や反応を追跡したりすることができる。ビデオレート顕微鏡では、 チップの高さを調整するフィードバックが完全に機能し、80 Hz のフレームレートが達成されている。 [ 14 ]
電子の量子トンネル効果は、量子力学から生じるSTMの機能概念です。古典的には、粒子が不透過性の障壁に衝突しても通過しません。障壁がz方向に沿って作用するポテンシャルで記述され、質量m<sub> e </sub>の電子がポテンシャルエネルギーU ( z )を得る場合、電子の軌道は決定論的であり、その運動エネルギーとポテンシャルエネルギーの合計Eは常に保存されます。
電子は、初期エネルギーEがU ( z )より大きい領域でのみ、明確な非ゼロの運動量pを持つ。しかし、量子物理学では、電子は古典的には禁止されている領域を通過することができる。これはトンネル効果と呼ばれる。[ 5 ]

走査型トンネル顕微鏡の試料と探針間のトンネル効果の最も単純なモデルは、矩形ポテンシャル障壁のモデルである。[ 15 ] [ 5 ]エネルギーEの電子が、幅wの空間領域にある高さUのエネルギー障壁に入射する。一次元の場合を仮定すると、ポテンシャルU ( z )が存在する場合の電子の挙動は、波動関数によって記述される。シュレーディンガー方程式を満たす
ここで、 ħは換算プランク定数、zは位置、m eは電子質量である。障壁の両側のゼロ電位領域では、波動関数は次の形をとる。
どこ障壁内部(E < U)では、波動関数は2つの項の重ね合わせであり、それぞれの項は障壁の片側から崩壊する。
どこ。
係数rとt は、入射電子波のうちどれだけが障壁を反射または透過するかを示す指標となる。すなわち、入射粒子電流全体のうちどれだけが反射または透過するかを示す。のみ確率電流式からわかるように、伝送される。
これは次のように評価されます透過係数は、 z = 0 およびz = wにおける波動関数の 3 つの部分とその導関数の連続性条件から得られます(詳細な導出は「矩形ポテンシャル障壁」の記事に記載されています)。これにより、次の式が得られます。どここの式はさらに簡略化して、次のように表すことができます。
STM実験では、典型的な障壁の高さは材料の表面仕事関数Wのオーダーであり、ほとんどの金属では4~6 eVの値をとります 。[ 15 ]仕事関数は、占有準位(最も高いのはフェルミ準位( T = 0 Kの金属の場合))から真空準位へ電子を移動させるのに必要な最小エネルギーです。電子は、一方の側の占有状態から障壁の反対側の非占有状態へのみ、2つの金属間をトンネルできます。バイアスがない場合、フェルミエネルギーは一致しており、トンネル効果は発生しません。バイアスをかけると、一方の電極の電子エネルギーが高くなり、反対側で同じエネルギーのマッチングがない電子はトンネルします。実験では、1 Vの数分の1のバイアス電圧が使用されるため、 は 10 ~ 12 nm −1のオーダーであり、wは数ナノメートルである。障壁は強く減衰する。透過確率の式は次のように簡略化される。したがって、単一レベルからのトンネル電流は[ 15 ]
ここで、両方の波数ベクトルは準位のエネルギーEに依存する。そして
トンネル電流は、試料と探針の間の距離に指数関数的に依存し、通常、距離が 1 Å (0.1 nm)増加すると、1 桁減少します 。[ 5 ]このため、理想的に鋭利でない探針からトンネルが発生する場合でも、電流への支配的な寄与は、最も突出した原子または軌道から生じます。[ 15 ]

障壁の一方の側の占有エネルギー準位からのトンネルには、障壁のもう一方の側に同じエネルギーの空準位が必要であるという制約の結果、トンネルは主にフェルミ準位付近の電子で発生します。トンネル電流は、サンプル内の利用可能な状態または占有状態の密度と関連付けることができます。印加電圧Vによる電流(トンネルがサンプルからチップに向かって発生すると仮定) は、次の 2 つの要因に依存します。1) サンプル内のフェルミ準位E FとE F − eVの間の電子の数、および 2) チップの障壁のもう一方の側にトンネルできる対応する自由状態を持つ電子の数。[ 5 ]トンネル領域の利用可能な状態の密度が高いほど、トンネル電流は大きくなります。慣例として、正のV は、チップ内の電子がサンプル内の空状態にトンネルすることを意味し、負のバイアスでは、電子はサンプル内の占有状態からチップにトンネルします。[ 5 ]
バイアスが小さく、温度が絶対零度に近い場合、トンネル効果に利用できる特定の体積内の電子の数(電子濃度)は、電子状態の密度ρ(EF)と2つのフェルミ準位間のエネルギー間隔eVの積です。[ 5 ]これらの電子の半分は障壁から遠ざかる方向に移動します。残りの半分は障壁に入射する電流を表し、これは電子濃度、電荷、および速度v(Ii = nev )の積で与えられます。[ 5 ]
トンネル電流は入射電流のごく一部となる。その割合は透過確率Tによって決定される[ 5 ]ので、
長方形のポテンシャル障壁の最も単純なモデルでは、透過確率係数Tは | t | 2に等しい。

2 つの電極のより現実的な波動関数に基づくモデルは、金属-絶縁体-金属接合の研究においてジョン・バーディーンによって考案された。 [ 16 ]彼のモデルは、2 つの電極に対して 2 つの別々の正規直交波動関数セットを取り、システムが接近したときの時間発展を調べる。[ 5 ] [ 15 ]バーディーンの斬新な方法は、それ自体が独創的であり、[ 5 ]摂動が標準的なレイリー-シュレーディンガー摂動理論の外部ポテンシャルではなく、2 つのサブシステムの相互作用から生じる時間依存摂動問題を解決する。
試料 (S) と探針 (T) の電子の波動関数はそれぞれ、表面仕事関数とほぼ同じ大きさの表面電位障壁に衝突した後、真空中に崩壊します。波動関数は、電位U SとU Tの電子に対する 2 つの別々のシュレーディンガー方程式の解です。既知のエネルギーの状態の時間依存性がそしてが因数分解されると、波動関数は次の一般的な形式になります。
2つのシステムがより接近しているが、薄い真空領域によって依然として隔てられている場合、結合システム内の電子に作用する電位はU T + U Sとなります。ここで、各電位は空間的に障壁のそれぞれの側に限定されています。一方の電極の波動関数の裾が他方の電極の電位の範囲内にあるため、任意の状態が時間とともに他方の電極の状態に変化する有限の確率が存在します。[ 5 ]サンプルの状態μの将来は、時間依存係数を持つ線形結合として記述できます。そしてすべて:
初期条件付き[ 5 ]新しい波動関数をポテンシャルU T + U Sのシュレーディンガー方程式に挿入すると、得られた方程式は各個別の波動関数に投影されます。(つまり、方程式にそして、(全体積にわたって積分して)係数を分離する全てほぼすべてに直交していると考えられている(それらの重なりは全波動関数のごく一部であり)、一次の量のみが保持される。したがって、係数の時間発展は次のように与えられる。
電極表面から数原子直径離れた場所では電位U T がゼロになるため、 zに関する積分は、障壁内部のどこかにある点z 0から先端の体積 ( z > z 0 ) まで行うことができます。
トンネル行列要素が次のように定義される場合
試料の状態μが時間t内に探針の状態νに変化する確率は
多数の電子が障壁に衝突するシステムでは、この確率はトンネル効果によってトンネル効果を成功させる電子の割合を示します。時刻tにおいてこの割合が後の時刻t + d tでは、トンネル効果を起こしたであろう。したがって、各瞬間のトンネル電子の電流は、で割ったこれは、[ 15 ]
STMにおける測定の時間スケールは、材料中の電子プロセスの典型的なフェムト秒の時間スケールよりも何桁も大きく、は大きい。式の分数部分は、の高速振動関数である。中心ピークから離れるにつれて急速に減衰し、言い換えれば、最も可能性の高いトンネル過程は、電子のエネルギーが保存される弾性トンネル過程である。上記の分数はデルタ関数を表しているので、
固体システムは、離散的なエネルギーレベルではなく、連続的なエネルギーレベルという観点から一般的に記述される。エネルギーにおける先端の状態密度と考えることができる贈る
サンプル中のエネルギー間のエネルギー準位の数そしてはこれらの準位は占有されるとスピン縮退し(ごく一部の特殊な物質を除く)、電荷を帯びる。どちらのスピンでも。サンプルに電圧を印加するとトンネル効果は、各電極についてフェルミ・ディラック分布によって与えられる占有状態間でのみ発生する。、は同一ではない。つまり、どちらか一方のみが占有されている場合であって、両方が占有されている場合ではない。これはすべてのエネルギーに当てはまる。そのためにはゼロではない。例えば、電子はエネルギー準位からトンネルする。サンプル中のエネルギー準位先端で()電子サンプルでは、先端に空の状態が見つかります。()、そしてその間のすべてのエネルギーについても同様です。したがって、トンネル電流は、次の3つの要素の積の、これらすべてのエネルギーにわたる小さな寄与の合計です。利用可能な電子を表し、トンネル掘削が許可されている人々、そして確率要因実際にトンネルを掘る人たちへ:
典型的な実験は液体ヘリウム温度(約4 K)で行われ、その温度では電子集団のフェルミ準位カットオフ幅は1ミリ電子ボルト未満である。許容されるエネルギーは2つの階段状のフェルミ準位間のエネルギーのみであり、積分は次のようになる。
バイアスが小さい場合、電子波動関数、ひいてはトンネル行列要素は、狭いエネルギー範囲では大きく変化しないと考えるのが妥当である。この場合、トンネル電流は試料表面と探針の状態密度の畳み込みとなる。
トンネル電流が2つの電極間の距離にどのように依存するかは、トンネル行列要素に含まれています。
この式は、電位への明示的な依存性が残らないように変換できます。まず、先端のシュレーディンガー方程式から一部を取り出し、弾性トンネル条件を使用して、
今はサンプルのシュレーディンガー方程式に存在し、運動エネルギーとポテンシャルエネルギーに作用するエネルギーの合計に等しい。しかし、 U Sを含む可能性のある部分は、障壁の先端側ではほぼゼロです。残るのは、
括弧内の被積分関数が等しいので、zについて積分できます。
バーディーンのトンネル行列要素は、2つの平面電極を隔てる表面上の波動関数とその勾配の積分である。
トンネル電流が電極間の距離に指数関数的に依存するのは、表面の電位差を透過して漏れ出し、材料外部の古典的に禁じられた領域へと指数関数的に減衰していく波動関数そのものに起因する。
トンネル行列要素は顕著なエネルギー依存性を示し、 eV区間の上端からのトンネルは、下端の状態からのトンネルよりもほぼ 1 桁高い確率で起こります。サンプルに正のバイアスをかけると、チップの状態密度がフェルミ準位に集中しているかのように、サンプルの非占有レベルがプローブされます。逆に、サンプルに負のバイアスをかけると、占有された電子状態がプローブされますが、チップの電子状態のスペクトルが支配的になります。この場合、チップの状態密度が可能な限り平坦であることが重要です。[ 5 ]
2つの電極の断熱近似を考慮し、標準的な時間依存摂動理論を用いることで、バーディーンの結果と同一の結果が得られます。[ 15 ]これにより、遷移確率に関するフェルミの黄金律が得られます。上記の形式で。
Bardeen のモデルは 2 つの平面電極間のトンネル効果に関するものであり、走査トンネル顕微鏡の横方向の分解能を説明するものではありません。Tersoff と Hamann [ 17 ] [ 18 ] [ 19 ]は Bardeen の理論を使用し、探針を構造のない幾何学的点としてモデル化しました。[ 5 ]これにより、モデル化が難しい探針の特性を試料表面の特性から分離することができました。主な結果は、トンネル電流が球対称探針の曲率中心の位置で取得したフェルミ準位における試料の局所状態密度に比例するというものでした ( s波探針モデル)。このような単純化により、彼らのモデルは、ピコメートル未満の原子スケールの波状構造を予測したにもかかわらず、ナノメートルより大きい表面構造の画像を解釈するのに有用であることが証明されました。これらは顕微鏡の検出限界をはるかに下回り、実験で実際に観測された値よりも小さいものです。
サブナノメートル分解能の実験では、探針と試料表面の状態の畳み込みが常に重要となり、同一スキャン内で観察される原子の凹凸の見かけ上の反転という形で現れる。このような効果は、表面と探針の電子状態、および2つの電極の相互作用の仕方を第一原理からモデル化することによってのみ説明できる。
ビンニッヒとローラーの発明に類似した初期の発明である、NISTのR.ヤング、J.ワード、F.サイアによるトポグラファイナーは、電界放出に依存していた。[ 21 ]しかし、ヤングはトンネル効果を利用することでより高い解像度が得られる可能性があることに気づいた人物としてノーベル委員会から評価されている。[ 22 ]
STM を基にした他の多くの顕微鏡技術が開発されています。これらには、光子をトンネルするために光学チップを使用する光子走査顕微鏡(PSTM) [ 4 ]、表面の電位を測定する走査トンネル電位測定法(STP) [ 4 ] 、強磁性チップを使用してスピン偏極電子を磁性サンプルにトンネルするスピン偏極走査トンネル顕微鏡 (SPSTM) [ 23 ] 、ナノスケールでの電気測定を可能にするマルチチップ走査トンネル顕微鏡、およびチップとサンプル間の相互作用によって生じる力を測定する原子間力顕微鏡(AFM) が含まれます。
STMは、原子を操作してサンプルのトポグラフィーを変更するために使用できます。これはいくつかの理由で魅力的です。まず、STMは原子レベルで精密な位置決めシステムを備えているため、非常に正確な原子スケールの操作が可能です。さらに、探針によって表面が変更された後、同じ装置を使用して結果として生じる構造を画像化できます。IBMの研究者は、ニッケル表面に吸着したキセノン原子を操作する方法を開発したことで有名です。[ 4 ]この技術は、少数の吸着原子で電子の囲いを作り、基板表面の電子密度のフリーデル振動を観察するために使用されています。実際のサンプル表面を変更することに加えて、STMを使用して電子をサンプル上の電子ビームフォトレジスト層にトンネルし、リソグラフィーを行うこともできます。これは、従来の電子ビームリソグラフィーよりも露光をより細かく制御できるという利点があります。 STMのもう一つの実用的な応用例は、金属(金、銀、タングステンなど)を任意の(事前にプログラムされた)パターンで原子堆積させることであり、これはナノデバイスの接点として、あるいはナノデバイス自体として使用できる。