物理学および工学において、構成方程式または構成関係とは、物質、実体、または場に固有の、2つ以上の物理量(特に運動量と運動学的量に関連する運動量)間の関係であり、通常は印加された場や力などの外部刺激に対するその応答を近似するものです。これらは、物理法則を支配する他の方程式と組み合わせて、物理的な問題を解決します。たとえば、流体力学ではパイプ内の流体の流れ、固体物理学では電場に対する結晶の応答、構造解析では印加された応力または荷重とひずみまたは変形との関係などです。
構成方程式の中には、単に現象論的なものもあれば、第一原理から導出されるものもあります。一般的な近似構成方程式は、電気伝導率やばね定数など、材料の特性とみなされるパラメータを用いた単純な比例関係として表されることがよくあります。しかし、材料の方向依存性を考慮する必要がある場合が多く、スカラーパラメータはテンソルに一般化されます。構成関係は、材料の応答速度や非線形挙動を考慮するためにも修正されます。[ 1 ]線形応答関数の記事を参照してください。
最初の構成方程式(構成法則)はロバート・フックによって開発され、フックの法則として知られています。これは線形弾性材料の場合を扱います。この発見の後、この種の方程式は、この例ではしばしば「応力-ひずみ関係」と呼ばれますが、「構成仮定」または「状態方程式」とも呼ばれ、一般的に使用されるようになりました。ウォルター・ノールは構成方程式の使用を発展させ、その分類と不変性の要件、制約、および「材料」、「等方性」、「異方性」などの用語の定義の役割を明確にしました。応力速度= f (速度勾配、応力、密度) の形式の「構成関係」のクラスは、1954 年にクリフォード・トゥルーズデルの下でウォルター・ノールが行った博士論文の主題でした。[ 2 ]
現代の凝縮系物理学では、構成方程式が重要な役割を果たします。線形構成方程式と非線形相関関数を参照してください。[ 3 ]
どこ:
摩擦は複雑な現象である。巨視的に見ると、2つの材料の界面における摩擦力F f は、 2つの界面間の接触点における反力Rに比例するものとしてモデル化できる。ただし、この摩擦係数μ fは材料の組み合わせによって異なる。
これは、静止摩擦(静止している2つの物体が自然に滑るのを防ぐ摩擦)、動摩擦(互いに擦れ合ったり滑ったりする2つの物体間の摩擦)、または転がり摩擦(滑りを防ぐ摩擦力だが、丸い物体にトルクを及ぼす)に適用できる。
線形材料の応力-ひずみ構成関係は、一般にフックの法則として知られています。最も単純な形では、この法則は、ばね定数(または弾性定数)kをスカラー方程式で定義し、引張力/圧縮力が伸長(または収縮)変位xに比例することを示しています。
つまり、材料は線形的に応答する。同様に、応力σ、ヤング率E、およびひずみε (無次元) を用いて表すと次のようになる。
一般に、固体を変形させる力は、材料の表面に垂直な力(垂直力)または接線方向の力(せん断力)のいずれかであり、これは応力テンソルを用いて数学的に記述することができる。
ここで、Cは弾性テンソル、Sはコンプライアンステンソルである。
弾性材料の変形にはいくつかの種類があります。[ 4 ]
物体Aが別の物体Bと衝突した後の相対的な分離速度vは、ニュートンの実験的衝撃法則で定義される反発係数によって、相対的な接近速度vと関連付けられます。[ 5 ]
これは、衝突がAとBの表面での相互作用を伴うため、AとBの材料によって異なります。通常は0 ≤ e ≤ 1で、e = 1は完全弾性衝突、e = 0は完全非弾性衝突です。超弾性(または爆発的)衝突の場合は、 e ≥ 1になることもあります。
抗力方程式は、断面積Aの物体が密度ρの流体中を速度v(流体に対する相対速度)で移動する際に働く抗力Dを表す。
ここで、抗力係数(無次元)c d は、物体の形状と流体と物体の界面における抗力に依存します。
粘度μのニュートン流体の場合、せん断応力τはひずみ速度(横方向流速勾配)∂u / ∂y(単位: s⁻¹ )と線形関係にある。均一せん断流では:
ここで、u ( y )は流れの横方向(横断方向)yにおける流速uの変化を表す。一般に、ニュートン流体の場合、せん断応力テンソルの要素τijと流体の変形との関係は次のように表される。
場所: [ 6 ]
理想気体の法則は、圧力pと体積Vが気体のモル数nを介して温度Tと関係しているという意味で、構成関係である。
ここで、Rは気体定数(J⋅K −1 ⋅mol −1)である。
古典物理学と量子物理学の両方において、系の正確なダイナミクスは連立微分方程式の集合を形成し、統計力学のレベルであっても、ほとんどの場合、厳密に解くには複雑すぎる。電磁気学の文脈では、このことは自由電荷と自由電流のダイナミクス(マクスウェル方程式に直接含まれる)だけでなく、束縛電荷と束縛電流のダイナミクス(構成関係を介してマクスウェル方程式に含まれる)にも当てはまる。そのため、通常は様々な近似手法が用いられる。
例えば、実際の物質においては、電荷の時間的・空間的応答を決定するために、ボルツマン方程式、フォッカー・プランク方程式、ナビエ・ストークス方程式などの複雑な輸送方程式を解く必要があります。例えば、磁気流体力学、流体力学、電気流体力学、超伝導、プラズマモデリングなどを参照してください。これらの問題を扱うための物理体系全体が開発されています。例えば、線形応答理論、グリーン・久保関係、グリーン関数(多体理論)などを参照してください。
これらの複雑な理論は、誘電率、透磁率、導電率など、さまざまな材料の電気的応答を記述する構成関係の詳細な公式を提供する。
電磁気学における計算(すなわち、マクスウェルの巨視的方程式の適用)を行う前に、変位場DとE、および磁場HとBの関係を明確にする必要があります。これらの式は、印加された場に対する束縛電荷と電流の応答を規定するものであり、構成関係と呼ばれます。
補助場DとH、および場EとBの間の構成関係を決定するには、まず補助場自体を定義することから始める。
ここで、Pは分極場、Mは磁化場であり、それぞれ微視的な束縛電荷と束縛電流によって定義されます。MとPの計算方法に入る前に、次の特殊なケースを検討しておくと便利です。
磁性体や誘電体が存在しない場合、構成関係は単純である。
(等方性[ 7 ])線形材料では、PはEに比例し、MはBに比例するため、構成関係も単純明快である。分極Pと磁化Mに関して、それらは次のようになる。
ここで、χeとχmはそれぞれ、ある材料の電気感受率と磁気感受率である。DとHを用いて表すと、構成関係は次のようになる。
ここで、εとμは定数(材料に依存する)であり、それぞれ材料の誘電率と透磁率と呼ばれる。これらは、感受率と次の関係にある。
実際の材料の場合、構成関係は近似的に線形である場合を除き、線形ではありません。第一原理から構成関係を計算するには、与えられたEとBからPとM がどのように生成されるかを決定する必要があります。[注 1 ]これらの関係は、経験的(直接測定に基づく)または理論的(統計力学、輸送理論、または凝縮系物理学の他のツールに基づく)である場合があります。使用される詳細は、検討対象の問題に必要なレベルに応じて、巨視的または微視的である場合があります。
一般的に、構成関係は通常、次のように記述できます。 しかし、εとμは一般に単純な定数ではなく、E、B、位置、時間の関数であり、テンソル的な性質を持つ。例は以下のとおりである。
これらの例のバリエーションとして、一般に材料は双異方性であり、DとBは追加の結合定数ξとζを介してEとHの両方に依存します。[ 11 ]
実際には、特定の状況下では材料特性の影響が無視できるほど小さい場合があり、小さな影響は無視できます。例えば、低電界強度では光学的非線形性は無視できます。周波数が狭い帯域幅に制限されている場合は、材料分散は重要ではありません。材料が透明な波長では、材料吸収は無視できます。また、有限の導電率を持つ金属は、マイクロ波またはそれ以上の波長では、無限の導電率を持つ完全な金属として近似されることがよくあります(表皮深さがゼロの硬い障壁を形成します)。
物質の構成方程式を理論的に計算することは、理論凝縮系物理学および材料科学において一般的で重要かつ時に困難な課題である。一般に、構成方程式は、ローレンツ力を介して分子が局所場にどのように応答するかを計算することによって理論的に決定される。結晶の格子振動や結合力など、他の力もモデル化する必要がある場合がある。すべての力を含めることで分子に変化が生じ、それを用いて局所場の関数として圧力Pと質量Mを計算する。
局所磁場は、近傍物質の分極や磁化によって生じる磁場によって、印加磁場とは異なるものとなる。この影響もモデル化する必要がある。さらに、実際の物質は連続体ではなく、原子スケールで局所磁場は大きく変化する。連続体近似を行うためには、適切な体積で磁場を平均化する必要がある。
これらの連続体近似では、凝縮系物理学に適用される量子場理論などの量子力学的解析が必要となる場合が多い。例えば、密度汎関数理論、グリーン・久保関係、グリーン関数などを参照されたい。
別の均質化手法(コングロマリットやラミネートなどの材料を扱う伝統から発展したもの)は、不均質な材料を均質な有効媒質で近似することに基づいています[ 12 ] [ 13 ] (不均質性のスケールよりもはるかに大きな波長の励起に対して有効)。 [ 14 ] [ 15 ] [ 16 ] [ 17 ]
多くの実際の材料の連続体近似特性の理論的モデリングは、実験的測定にも依存することが多い。[ 18 ]例えば、低周波数での絶縁体のεは平行平板コンデンサにすることで測定でき、光周波数でのεはエリプソメトリーで測定されることが多い。
媒質の(絶対)屈折率n (無次元)は、幾何光学および物理光学において本質的に重要な特性であり、真空中の光速c 0と媒質中の光速cの比として定義される。
ここで、 εは誘電率、ε r は媒質の比誘電率であり、同様にμは透磁率、μ r は媒質の比透磁率である。真空の誘電率はε 0であり、真空の透磁率はμ 0である。一般に、n (およびε r ) は複素数である。
相対屈折率は、2つの屈折率の比として定義されます。絶対屈折率は1つの材料に対するものであり、相対屈折率はあらゆる界面の組み合わせに適用されます。
この定義の結果として、物質中の光の速度は
真空の特殊な場合。ε = ε 0およびμ = μ 0、
圧電光学効果は、固体内の応力σと誘電率aを関連付け、これらは圧電光学係数Π(単位 K -1)と呼ばれる4階テンソルによって結合されます。
物質の輸送、あるいは物質の性質をほぼ同じように記述する法則がいくつか存在する。いずれの場合も、それらを言葉で表すと次のようになる。
一般的に、定数は、材料の方向依存性を考慮するために、2階テンソルに置き換える必要がある。