Loading article…
化学において、希ガス化合物は、周期表の 18族の希ガスの元素を含む化合物です。希ガスは一般に非反応性の元素ですが、特にキセノン元素を含むそのような化合物が数多く観察されています。
化学の観点から見ると、希ガスは 2 つのグループに分けられます。[要出典]一方には比較的反応性の高いクリプトン(イオン化エネルギー14.0 eV )、キセノン (12.1 eV )、ラドン(10.7 eV ) があり、もう一方には極めて反応性の低いアルゴン(15.8 eV )、ネオン(21.6 eV )、ヘリウム(24.6 eV ) があります。この分類と一致して、Kr、Xe、Rn は標準温度と圧力またはその付近でバルクで単離できる化合物を形成しますが、He、Ne、Ar は分光法を使用して真の化学結合を形成することが観察されていますが、これは 40 K (-233 °C、-388 °F) 以下の温度で希ガスマトリックスに凍結された場合、希ガスの超音速ジェットの場合、または金属との極めて高い圧力の場合に限られます。
重い希ガスは軽い希ガスよりも電子殻の数が多い。そのため、最外殻電子は内側の電子からの遮蔽効果を受け、正電荷を帯びた原子核にあまり強く引き付けられないため、イオン化されやすくなる。その結果、イオン化エネルギーは十分に低くなり、最も電気陰性度の高い元素であるフッ素や酸素と、また特定の状況下では窒素や炭素などの電気陰性度が低い元素とも、安定した化合物を形成できる。[1] [2]
歴史と背景
19 世紀末に希ガス族が初めて特定されたとき、化合物を形成するものは観察されなかったため、当初はすべて化合物を形成できない不活性ガス(当時の名称) であると考えられていました。20 世紀初頭の原子論の発展により、それらの不活性は電子の価電子殻が満たされているため化学的に非常に安定しており、反応しないためであると考えられました。すべての希ガスはsおよびp外殻電子殻が満たされているため( pサブレベルを持たないヘリウムを除く)、化合物を容易に形成しません。イオン化エネルギーが高く、電子親和力がほぼゼロであることが、それらの非反応性の理由です。
1933年、ライナス・ポーリングは、より重い希ガスはフッ素や酸素と化合物を形成できると予言した。具体的には、六フッ化クリプトン（Kr F 6）と六フッ化キセノン（Xe F 6）の存在を予言し、XeF 8が不安定な化合物として存在するのではないかと推測し、キセノン酸が過キセノン酸塩を形成することを示唆した。[3] [4]これらの予言は非常に正確であることが証明されたが、その後のXeF 8の予言では、熱力学的に不安定であるだけでなく、運動学的にも不安定であることが示された。[5] 2022年現在、XeF 8は作られていないが、オクタフルオロキセノン（VI）酸アニオン（[XeF 8 ] 2−）は観測されている。
1960年までに、共有結合した希ガス原子を持つ化合物はまだ合成されていませんでした。[6]希ガス化合物に関する最初の発表は、1962年6月にニール・バートレットによって行われました。バートレットは、酸化力の高い化合物である六フッ化白金がO 2をOにイオン化することに気付きました。+2O 2からOへのイオン化エネルギーは+2(1165 kJ mol −1 ) は、 Xe からXe +へのイオン化エネルギー(1170 kJ mol −1 ) とほぼ等しいことから、彼は Xe とPtF 6の反応を試みた。これにより、結晶性生成物である六フッ化白金酸キセノンが得られ、その化学式はXe + [PtF 6 ] −であると提案された。[4] [7]後に、この化合物は実際にはより複雑であり、 [XeF] + [PtF 5 ] −と[XeF] + [Pt 2 F 11 ] − の両方を含むことが示された。[8]それにもかかわらず、これは希ガスの最初の実際の化合物であった。
最初の二成分希ガス化合物は1962年後半に報告されました。バートレットはキセノンとフッ素の混合物を高温にさらすことで四フッ化キセノン（XeF 4 ）を合成しました。 [9]ルドルフ・ホッペは他のグループとともに、元素の反応によって二フッ化キセノン（XeF 2 ）を合成しました。 [10]
キセノン化合物の合成に初めて成功した後、1963年に二フッ化クリプトン（KrF 2 ）の合成が報告されました。 [11]
真の希ガス化合物
このセクションでは、非放射性希ガスを原子量の降順で検討します。これは一般に、それらの発見の優先度と、これらの化合物に関する入手可能な情報の幅を反映しています。放射性元素のラドンとオガネソンは研究が難しく、セクションの最後で検討します。
キセノン化合物
1962 年にXeF 4とXeF 2に関する研究が初めて行われた後、合成されたキセノン化合物には、他のフッ化物 ( XeF 6 )、オキシフッ化物 ( XeOF 2、XeOF 4、XeO 2 F 2、XeO 3 F 2、XeO 2 F 4 )、酸化物 ( XeO 2、XeO 3、XeO 4 ) などがあります。キセノンフッ化物は他のいくつかのフッ化物と反応して、オクタフルオロキセノン酸ナトリウム ( VI ) ( (Na + ) 2 [XeF 8 ] 2− ) [要出典]などのフルオロキセノニウム塩や、トリフルオロキセノニウムヘキサフルオロアンチモネート ( [XeF 3 ] + [SbF 6 ] − )などのフルオロキセノニウム塩を形成します。[12]
他のハロゲン化物の反応性に関しては、XeCl 2やXeClなどの希ガスハロゲン化物の短寿命エキシマーがその場で調製され、エキシマレーザーの機能に使用されています。[13]
最近、[いつ? ]キセノンは、 XeO n X 2型の多種多様な化合物を生成することが示されました。ここで、nは 1、2、または 3 で、X はCF 3、C(SO 2 CF 3 ) 3、N(SO 2 F) 2、N(SO 2 CF 3 ) 2、OTeF 5、O(IO 2 F 2 )などの任意の電気陰性基です。化合物の範囲は印象的で、近隣の元素であるヨウ素の場合と同様に数千に及び、キセノンと酸素、窒素、炭素、ホウ素、さらには金との結合、過キセノン酸、いくつかのハロゲン化物、および錯イオンが含まれます。[要出典]
化合物[Xe 2 ] + [Sb 4 F 21 ] −は、Xe-Xe結合を含み、これは知られている中で最も長い元素間結合である（308.71 pm = 3.0871 Å）。[14] Xe 2の短寿命エキシマーは、エキシマーレーザーの機能の一部として存在することが報告されている。[要出典]
クリプトン化合物
クリプトンガスは、極度の強制条件下でフッ素ガスと反応し、次の式に従って KrF 2を形成します。
- クリル + F 2 → クリル F 2
KrF 2は強いルイス酸と反応して[KrF] +と[Kr 2 F 3 ] +陽イオンの塩を形成する。[11] 1963年にGrosseが報告したClaasen法を用いたKrF 4の合成は、後に誤った同定であったことが判明した。[15]
Kr-F結合以外のクリプトン化合物（フッ素以外の原子を含む化合物）も報告されている。KrF 2はB(OTeF 5 ) 3と反応して、クリプトン-酸素結合を持つ不安定な化合物Kr(OTeF 5 ) 2 を生成する。クリプトン-窒素結合は、 -50 ° C以下でKrF 2と[H-C≡N-H] + [AsF 6 ] -との反応によって生成される陽イオン[H-C≡N-Kr-F] +中に見られる。[16]
アルゴン化合物
HArFの発見は2000年に発表されました。[17] [18]この化合物は実験研究のために低温アルゴン マトリックス中に存在することができ、また計算的にも研究されてきました。[18]アルゴン水素化物イオン[ArH] +は1970年代に得られました。[19]この分子イオンは、その発光周波数に基づいて、かに星雲 でも特定されています。 [20]
[ArF] +の固体塩は[SbF 6 ] −または[AuF6]−アニオンで調製できる可能性がある。 [21] [22]
ネオンとヘリウムの化合物
Ne +、[NeAr] +、[NeH] +、[HeNe] +イオンは、光学および質量分析研究から知られています。ネオンは不安定な水和物も形成します。[23]非常に低い温度または極度の圧力で存在する可能性のあるいくつかの準安定ヘリウム化合物については、経験的および理論的証拠があります。安定した陽イオン[HeH] +は1925年に報告されましたが、[24]中性ではなく単離できないため、真の化合物とは見なされていませんでした。2016年に科学者はヘリウム化合物二ナトリウムヘリド（Na 2 He）を作成しましたが、これは最初に発見されたヘリウム化合物でした。[25]
ラドンとオガネソン化合物
ラドンは化学的に不活性ではないが、半減期が短く（ 222 Rnの場合は3.8日）、放射能エネルギーが高いため、唯一のフッ化物（RnF 2）、報告されている酸化物（RnO 3）、およびそれらの反応生成物を調査することは困難である。[26]
既知のオガネソン同位体はすべて半減期がさらに短く、ミリ秒単位であり、化合物はまだ知られていないが[27]、いくつかは理論的に予測されている。化学的にはラドンよりもさらに反応性が高く、希ガスというよりは普通の元素に近いと予想されている。[28]
キセノンヘキサフルオロ白金酸塩およびキセノンテトラフルオロ化物以前の報告
クラスレート
1962 年以前は、希ガスの唯一の孤立化合物はクラスレート（クラスレート水和物を含む）であり、配位化合物などの他の化合物は分光学的手段によってのみ観察されていました。[4]クラスレート（ケージ化合物とも呼ばれる）は、特定の有機物質および無機物質の結晶格子の空洞内に閉じ込められた希ガスの化合物です。Ar、Kr、Xe、および Ne [30] は、結晶性ハイドロキノンとクラスレートを形成できます。Kr と Xe は、メラノフロジャイトの結晶にゲストとして現れることがあります。[31]
ヘリウム窒素（He(N 2 ) 11 ）結晶は、ダイヤモンドアンビルセル内で約 10 GPa の圧力下で室温で成長しました。[32]固体アルゴン水素クラスレート（Ar(H 2 ) 2 ）は、 MgZn 2ラーベス相と同じ結晶構造を持っています。これは 4.3 から 220 GPa の圧力で形成されますが、ラマン測定では、Ar(H 2 ) 2内のH 2分子は175 GPa 以上で解離することが示唆されています。同様のKr(H 2 ) 4固体は、5 GPa を超える圧力で形成されます。これは、クリプトン八面体がランダムに配向した水素分子に囲まれた面心立方構造を持っています。一方、固体Xe(H 2 ) 8では、キセノン原子が固体水素内で二量体を形成します。[29]
錯体化合物
Ar·BF 3などの配位化合物は低温で存在すると仮定されているが、確認されたことはない。[引用が必要]また、 WHe 2やHgHe 2などの化合物は電子衝撃によって形成されたと報告されているが、最近の研究では、これらはおそらく He が金属表面に吸着した結果であることが示されており、したがって、これらの化合物は実際には化合物とは見なされない。 [引用が必要]
水分補給
水和物は、希ガスを水中で圧縮することによって形成されます。強い双極子である水分子が希ガス原子に弱い双極子を誘導し、双極子間相互作用が生じると考えられています。重い原子は小さな原子よりも影響を受けやすいため、Xe·5.75H 2 Oが最も安定した水和物であると報告されています。[33]融点は24℃です。[34]この水和物の重水素化バージョンも生成されています。[35]
フラーレン付加物
希ガスは、希ガス原子がフラーレン分子内に閉じ込められたエンドヘドラルフラーレン化合物を形成することもできる。1993年に、C 60 を約3バールのHeまたはNeの圧力にさらすと、 He@C 60およびNe@C 60 の錯体が形成されることが発見された。[36]これらの条件下では、 C 60ケージ650,000個のうち約1個にのみヘリウム原子がドープされた。より高い圧力（3000バール）では、最大0.1％の収率を達成することができる。アルゴン、クリプトン、キセノンとのエンドヘドラル錯体も得られており、He@C 60の多数の付加物も得られている。[37]
アプリケーション
希ガス化合物の用途のほとんどは、酸化剤として、または希ガスを高密度の形で保存する手段としてです。キセノン酸は、不純物を導入する可能性がなく（キセノンは単にガスとして放出されるだけ）、この点でオゾンに匹敵する貴重な酸化剤です。 [4]過キセノン酸塩はさらに強力な酸化剤です。[要出典]キセノンベースの酸化剤は、 SO 2 ClF溶液中で室温で安定なカルボカチオンを合成するためにも使用されています。[38] [非一次ソースが必要]
重量当たりのフッ素含有量が非常に高いキセノンの安定塩（テトラフルオロアンモニウムヘプタフルオロキセネート（VI ） [NF 4 ][XeF 7 ]や、関連するテトラフルオロアンモニウムオクタフルオロキセネート（VI）[NF 4 ] 2 [XeF 8 ]など）は、ロケットの推進剤として使用される高エネルギー酸化剤として開発されている。[39] [非一次情報源が必要] [40]
キセノンフッ化物は優れたフッ素化剤である。[41]
クラスレートは、HeとNeをAr、Kr、Xeから分離するために、またAr、Kr、Xeの輸送にも使用されている。[要出典]（たとえば、クリプトンとキセノンの放射性同位体は保管や処分が難しく、これらの元素の化合物は気体よりも簡単に扱える可能性がある。[4]）さらに、放射性同位体のクラスレートは、特定の種類の放射線源を必要とする実験に適した配合を提供できる可能性がある。したがって、85 Krクラスレートはベータ粒子の安全な発生源を提供し、133 Xeクラスレートはガンマ線の有用な発生源を提供する。[42]
参考文献
- ^ Smith GL、Mercier HP、Schrobilgen GJ (2007年2月)。「[F 3 S≡NXeF][AsF 6 ]の合成とマルチNMRおよびラマン分光法、電子構造計算、X線結晶構造解析による構造研究」。無機化学。46 ( 4):1369–78。doi :10.1021/ic061899+ 。PMID 17256847。
- ^ Smith GL、Mercier HP、Schrobilgen GJ (2008 年 5 月)。「F 5 SN(H)Xe + ; sp 3混成窒素に結合したキセノンの稀な例; [F 5 SN(H)Xe][AsF 6 ]の合成と構造特性」。無機化学。47 (10): 4173–84。doi :10.1021/ic702039f。PMID 18407626 。
- ^ ポーリング、ライナス（1933年6月）。「アンチモン酸とアンチモン酸塩の式」。J . Am. Chem. Soc . 55 （ 5）：1895–1900。doi ：10.1021/ja01332a016。
- ^ abcde ホロウェイ、ジョン H. (1968)。希ガス化学。ロンドン：メシューエン。ISBN 0-416-03270-2。
- ^ Seppelt, Konrad (1979年6月). 「いくつかの電気陰性元素の化学における最近の進歩」.化学研究報告. 12 (6): 211–216. doi :10.1021/ar50138a004.
- ^ Miessler, Gary L.; Tarr, Donald A. (1999).無機化学（第2版）. Prentice Hall. p. 272. ISBN 0-13-841891-8。
- ^ Bartlett, N. (1962). 「キセノンヘキサフルオロ白金酸塩 Xe + [PtF 6 ] −」。ロンドン化学協会紀要(6): 218. doi :10.1039/PS9620000197。
- ^ Graham, L.; Graudejus, O.; Jha NK; Bartlett, N. (2000). 「XePtF 6の性質について」。配位化学レビュー。197 : 321–334。doi :10.1016/S0010-8545(99)00190-3。
- ^ Claassen, HH; Selig, H.; Malm, JG (1962). 「四フッ化キセノン」J. Am. Chem. Soc. 84 (18): 3593. doi :10.1021/ja00877a042.
- ^ ホッペ、R.;デーネ、W.マタウチ、H.ロダー、K. (1962-11-01)。 「キセノンのフッ素化」。アンジュー。化学。内部。エド。英語. 1 (11): 599.土井:10.1002/anie.196205992。
- ^ ab Lehmann, J (2002). 「クリプトンの化学」.配位化学レビュー. 233–234: 1–39. doi :10.1016/S0010-8545(02)00202-3.
- ^ Brock, David S.; Mercier, Hélène PA; Schrobilgen, Gary J. (2013). 「[H(OXeF 2 ) n ][AsF 6 ] および [FXe II (OXe IV F 2 ) n ][AsF 6 ] ( n = 1, 2): キセノン(IV)水酸化物フッ化物および酸化物フッ化物カチオンの例と [F 3 Xe—FH][Sb 2 F 11 ] および [H 5 F 4 ][SbF 6 ]·2[F 3 Xe—FH][Sb 2 F 11 ] の結晶構造」. Journal of the American Chemical Society . 135 (13): 5089–5104. doi :10.1021/ja312493j. PMID 23398504.
- ^ハッチンソン、 MHR (1980)。「エキシマとエキシマレーザー」。応用物理学。21 ( 2): 95–114。Bibcode :1980ApPhy..21...95H。doi : 10.1007 / BF00900671。S2CID 93808742。
- ^ Drews, Thomas ; Seppelt, Konrad (1997). 「Xe 2+イオン - 調製と構造」. Angewandte Chemie International Edition . 36 (3): 273–274. doi :10.1002/anie.199702731.
- ^ Prusakov, VN; Sokolov, VB (1971). 「二フッ化クリプトン」.ソビエト原子力エネルギー. 31 (3): 990–999. doi :10.1007/BF01375764. S2CID 189775335.
- ^ John H. Holloway、Eric G. Hope (1998)。AG Sykes (編)。無機化学の進歩。Academic Press。p. 57。ISBN 0-12-023646-X。
- ^ Khriachtchev、L.、Petterson、M.、Runeberg、N.、Lundell、J.、Räsänen、M. (2000)。 「安定したアルゴン化合物」。自然。406 (6798): 874–876。Bibcode :2000Natur.406..874K。土井：10.1038/35022551。PMID 10972285。S2CID 4382128 。
{{cite journal}}: CS1 maint: 複数の名前: 著者リスト (リンク) - ^ ab Bochenkova, Anastasia V.; Bochenkov, Vladimir E.; Khriachtchev, Leonid (2009 年 7 月 2 日). 「固体アルゴン中の HArF の再考: 不安定構成から安定構成への移行」. The Journal of Physical Chemistry A. 113 ( 26): 7654–7659. Bibcode :2009JPCA..113.7654B. doi :10.1021/jp810457h. PMID 19243121.
- ^ Wyatt, JR; Strattan, LW; Snyder, SC; Hierl, PM (1975). 「化学加速器による反応ダイナミクスの研究: Ar+ + CH4 → ArH+ + CH3」(PDF) . The Journal of Chemical Physics . 62 (7): 2555. Bibcode :1975JChPh..62.2555W. doi :10.1063/1.430836. hdl : 1808/16098 .
- ^ MJ、バーロウ; BM、スウィンヤード。オーウェン、ペテロ。チェルニチャロ、J.ゴメス、ハロウィーン。アイヴィソン、RJ;クラウス、O.リム、テリサス州。松浦真司ミラー、Ｓ．オロフソン、G.東部東部ポールハンプトン（2013 年 12 月 12 日）。 「希ガス分子イオンの検出、36
アルH+
、かに星雲内"。Science . 342 (6164): 1343–1345. arXiv : 1312.4843 . Bibcode :2013Sci...342.1343B. doi :10.1126/science.1243582. PMID 24337290. S2CID 37578581. - ^ Frenking, Gernot; Koch, Wolfram; Deakyne, Carol A.; Liebman, Joel F.; Bartlett, Neil (1989年1月)。「ArF +陽イオンは塩として単離できるほど安定しているか?」アメリカ化学会誌。111 (1): 31–33. doi :10.1021/ja00183a005。
- ^ セリグ、ヘンリー; ホロウェイ、ジョン H. (2005 年 5 月 27 日).希ガスのカチオンおよびアニオン錯体. 現在の化学の話題. 第 124 巻. pp. 33–90. doi :10.1007/3-540-13534-0_2. ISBN 978-3-540-13534-0. S2CID 91636049。
- ^ 「元素周期表：ロスアラモス国立研究所」periodic.lanl.gov . 2019年12月13日閲覧。
- ^ Hogness, TR; Lunn, EG (1925). 「陽線分析による電子衝撃による水素のイオン化の解釈」 . Phys. Rev. Lett . 26 (1). アメリカ物理学会: 44–55. Bibcode :1925PhRv...26...44H. doi :10.1103/PhysRev.26.44 . 2013年12月15日閲覧。
- ^ Crew, Bec (2017年2月7日). 「これまで学んだことは忘れてください – 科学者が安定したヘリウム化合物を作成したばかりです」. ScienceAlert . 2019年12月13日閲覧。
- ^ Kenneth S. Pitzer (1975). 「ラドンと元素118のフッ化物」(PDF) . J. Chem. Soc., Chem. Commun. (18): 760b–761. doi :10.1039/C3975000760b.
- ^ ムーディ、ケン (2013-11-30)。「超重元素の合成」。シェーデル、マティアス、ショーネシー、ドーン (編)。『超重元素の化学』（第 2 版）。シュプリンガー サイエンス & ビジネス メディア。pp. 24–8。ISBN 9783642374661。
- ^ Fricke, Burkhard (1975). 超重元素: 化学的および物理的性質の予測. Structure and Bonding. 第 21 巻. pp. 89–144. doi :10.1007/BFb0116498. ISBN 978-3-540-07109-9. 2013年10月4日閲覧。
{{cite book}}:|journal=無視されました (ヘルプ) - ^ abc Kleppe, Annette K.; Amboage, Mónica; Jephcoat, Andrew P. (2014). 「クリプトン-水素二元系で発見された新しい高圧ファンデルワールス化合物Kr(H2)4」。Scientific Reports . 4 : 4989. Bibcode :2014NatSR...4.4989K. doi : 10.1038/srep04989 .
- ^ Lim, Sol Geo; Lee, Jong-Won; Fujihisa, Hiroshi; Oh, Chang Yeop; Jang, Jiyeong; Moon, Dohyun; Takeya, Satoshi; Muraoka, Michihiro; Yamamoto, Yoshitaka; Yoon, Ji-Ho (2023). 「常温条件下でのヒドロキノン有機結晶クラスレートによるネオンカプセル化」. Communications Materials . 4 (1): 51. Bibcode :2023CoMat...4...51L. doi : 10.1038/s43246-023-00378-z . S2CID 259583357.
- ^ グナワルダネ、RP;ギース、H.リーバウ、F. (1987 年 3 月)。 「クラスラシルに関する研究。X. クラスラシルの形成と安定性に対する「ヘルプガス」の効果」。Zeitschrift für anorganische und allgemeine Chemie (ドイツ語)。546 (3): 189–198。土井：10.1002/zaac.19875460321。
- ^ ヴォス、WL;フィンガー、LW。 ＲＪ州ヘムリー。胡、JZ;マオ、香港。 JA スショウテン (1992)。 「固体窒素ヘリウム混合物中の高圧ファンデルワールス化合物」。自然。358 (6381): 46–48。Bibcode :1992Natur.358...46V。土井：10.1038/358046a0. S2CID 4313676。
- ^ Pauling, L. (1961). 「全身麻酔の分子理論」. Science . 134 (3471): 15–21. Bibcode :1961Sci...134...15P. doi :10.1126/science.134.3471.15. PMID 13733483.ポーリング、ライナス、カンブ、バークレー編 (2001)として再版。ライナス・ポーリング: 選集科学論文集。第 2 巻。ニュージャージー州リバーエッジ: ワールドサイエンティフィック。pp. 1328–1334。ISBN 981-02-2940-2。
- ^ ヘンダーソン、W. (2000). 主族化学. イギリス: 王立化学協会. p. 148. ISBN 0-85404-617-8。
- ^ 池田智子;メイ、シンジ。山室 修；松尾隆介；池田進；リチャード M. イバーソン (2000 年 11 月 23 日)。 「ゲスト分子と温度の関数としてのクラスレート水和物のホスト格子の歪み」。物理化学ジャーナル A。104 (46): 10623–10630。Bibcode :2000JPCA..10410623I。土井：10.1021/jp001313j.
- ^ Saunders, M.; Jiménez-Vázquez, HA; Cross, RJ & Poreda, RJ (1993). 「ヘリウムとネオンの安定化合物。He@C60 と Ne@C60」。Science . 259 ( 5100): 1428–1430. Bibcode :1993Sci...259.1428S. doi :10.1126/science.259.5100.1428. PMID 17801275. S2CID 41794612.
- ^ Saunders, Martin; Jimenez-Vazquez, Hugo A.; Cross, R. James; Mroczkowski, Stanley; Gross, Michael L.; Giblin, Daryl E. & Poreda, Robert J. (1994). 「高圧を用いたヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンのフラーレンへの取り込み」J. Am. Chem. Soc. 116 (5): 2193–2194. doi :10.1021/ja00084a089.
- ^ Mercier, HPA; Moran, MD; Schrobilgen, GJ; Steinberg, C.; Suontamo, RJ (2004). 「希ガス酸化剤[XeOTeF
5][Sb(OTeF
5）
6] : CXの合成と特性評価+
3(X = Cl、Br、OTeF
5) とCBr(OTeF
5）+
2陽イオンとCXの理論的研究+
3およびBX
3（X = F、Cl、Br、I、OTeF
5)". J. Am. Chem. Soc . 126 (17): 5533–5548. doi :10.1021/ja030649e. PMID 15113225. - ^ Christe, KO; Wilson, WW (1982年12月). 「ヘプタフルオロキセネート(VI)およびオクタフルオロキセネート(VI)アニオンのペルフルオロアンモニウム塩およびアルカリ金属塩」.無機化学. 21 (12): 4113–4117. doi :10.1021/ic00142a001.
- ^ Christe, Karl O.、Wilson, William W. ヘプタフルオロキセノンアニオンのパーフルオロアンモニウム塩。米国特許 4,428,913、1982 年 6 月 24 日
- ^ Christe, Karl O.; Dixon, David A. (1992). 「酸化フッ素化剤の酸化力の定量的尺度」アメリカ化学会誌. 114 (8): 2978–2985. doi :10.1021/ja00034a033.
- ^ Bhatnagar, Vijay M. (1963). 「キノールのクラスレート化合物」.国防科学ジャーナル、補足. 13 (4): 57–66.