フォトダイオードは、可視光、赤外線、紫外線、X線、ガンマ線などの光子放射に感度を持つ半導体ダイオードです。[ 1 ]光子を吸収すると電流が発生します。これは、検出や測定用途、または太陽電池での電力生成に使用できます。フォトダイオードは、可視光光電池からガンマ線分光計まで、電磁スペクトル全体にわたる幅広い用途で使用されています。
フォトダイオードはPIN構造またはp-n接合です。十分なエネルギーを持つ光子がダイオードに当たると、電子-正孔対が生成されます。このメカニズムは内部光電効果としても知られています。吸収が接合部の空乏層、またはそこから拡散長分離れた場所で起こると、これらのキャリアは空乏層の内部電界によって接合部から掃き出されます。したがって、正孔は陽極に向かって、電子は陰極に向かって移動し、光電流が生成されます。フォトダイオードを流れる全電流は暗電流(光がないときに流れる電流)と光電流の合計であるため、デバイスの感度を最大化するには暗電流を最小限に抑える必要があります。[ 2 ]したがって、フォトダイオードは逆バイアスで最も理想的に動作します。
一次近似では、特定のスペクトル分布に対して、光電流は放射照度に線形的に比例する。[ 3 ]

光起電力モード(ゼロバイアス)では、光電流はカソードへの短絡回路を介してアノードに流れます。回路が開いているか、負荷インピーダンスがあり、デバイスから光電流が流出するのを制限している場合、ダイオードを順方向バイアスする方向、つまりカソードに対してアノードが正となる方向に電圧が発生します。回路が短絡しているかインピーダンスが低い場合、順方向電流が光電流の全部または一部を消費します。このモードは、太陽電池の基礎となる光起電力効果を利用しています。従来の太陽電池は、単に大きな面積のフォトダイオードです。最適な電力出力を得るには、光起電力セルは、光電流に比べて小さな順方向電流しか発生しない電圧で動作します。[ 3 ]
光伝導モードでは、ダイオードは逆バイアス状態、すなわちカソードがアノードに対して正の電位に駆動されます。この逆バイアスによって空乏層の幅が広がり、接合部の静電容量が減少するため、電子が速やかに収集される電界領域が拡大し、応答時間が短縮されます。また、逆バイアスによって暗電流が発生しますが、光電流はほとんど変化しません。
このモードは高速ですが、光伝導モードでは暗電流やアバランシェ効果により、より多くの電子ノイズが発生する可能性があります。[ 4 ]優れたPINダイオードのリーク電流は非常に低いため(< 1 nA)、一般的な回路では負荷抵抗のジョンソン・ナイキストノイズが支配的になることがよくあります。
アバランシェフォトダイオードは、逆方向降伏電圧に近い高逆バイアスで動作するように構造が最適化されたフォトダイオードです。これにより、光生成された各キャリアがアバランシェ降伏によって増倍されデバイスの実効応答性が向上します。 [ 5 ]


フォトトランジスタは、光に感応するトランジスタです。一般的なフォトトランジスタの一種であるバイポーラフォトトランジスタは、基本的にバイポーラトランジスタを透明なケースに収めたもので、光がベース・コレクタ接合部に到達できるようになっています。これは、 1948年にベル研究所のジョン・N・シャイブによって発明されました[ 6 ] : 205ですが、1950年まで発表されませんでした[ 7 ]。ベース・コレクタ接合部で光子によって生成された電子はベースに注入され、このフォトダイオード電流はトランジスタの電流利得β(またはhfe)によって増幅されます。ベースとコレクタのリード線を使用し、エミッタを接続しない場合、フォトトランジスタはフォトダイオードになります。フォトトランジスタは光に対する応答性が高いものの、低レベルの光を検出する能力はフォトダイオードよりも優れているわけではありません。また、フォトトランジスタは応答時間が著しく長くなります。もう一つのタイプのフォトトランジスタである電界効果フォトトランジスタ(フォトFETとも呼ばれる)は、光に感応する電界効果トランジスタである。フォトバイポーラトランジスタとは異なり、フォトFETはゲート電圧を生成することによってドレイン・ソース電流を制御する。
ソーラートランジスタは、2端子ゲートレスフォトトランジスタです。このようなソーラートランジスタの小型クラスは、2018年にICN2の研究者によって実証されました。この新しいコンセプトは、光生成キャリアの流れにおけるメモリ抵抗効果を利用して太陽エネルギーで動作する、電源とトランジスタが一体化したデバイスです。[ 8 ]
フォトダイオードの製造に使用される材料は、その特性を決定する上で非常に重要です。なぜなら、材料のバンドギャップを超えて電子を励起するのに十分なエネルギーを持つ光子だけが、有意な光電流を生成するからです。
フォトダイオードの製造に一般的に使用される材料を以下の表に示します。[ 9 ]
シリコン系フォトダイオードは、ゲルマニウム系フォトダイオードよりもバンドギャップが大きいため、ノイズの発生が少ない。
MoS 2やグラフェンなどの二元材料は、フォトダイオード製造のための新しい材料として登場した。[ 10 ]
光を照射すると、p-n接合はフォトダイオードになる可能性があります。ダイオード、トランジスタ、ICなどの半導体デバイスにはp-n接合が含まれており、不要な光が照射されると正しく機能しません。[ 11 ] [ 12 ]これは、デバイスを不透明な筐体に封入することで回避されます。これらの筐体が高エネルギー放射線(紫外線、X線、ガンマ線)に対して完全に不透明でない場合、誘導光電流により、ダイオード、トランジスタ、ICが誤動作する可能性があります。 [ 13 ]パッケージからのバックグラウンド放射線も重要です。[ 14 ]耐放射線処理により、これらの影響が軽減されます。
場合によっては、その効果が実際に望ましい場合もあり、例えば、 LEDを感光デバイスとして使用する場合(「光センサーとしてのLED 」を参照)、あるいはエネルギーハーベスティングに使用する場合などがあり、その場合は、発光および光吸収ダイオード(LEAD)と呼ばれることもあります。[ 15 ]

フォトダイオードの重要な性能パラメータには、分光応答性、暗電流、応答時間、および雑音等価電力などがある。
光通信システムでフォトダイオードを使用する場合、これらのパラメータはすべて光受信機の感度に影響を与えます。光受信機の感度とは、受信機が指定されたビット誤り率を達成するために必要な最小入力電力のことです。
P-nフォトダイオードは、光導電体、電荷結合素子(CCD)、光電子増倍管などの他の光検出器と同様の用途で使用されます。これらは、照明に依存する出力を生成するため(測定用のアナログ)、または回路の状態を変更するため(制御やスイッチング、あるいはデジタル信号処理用のデジタル)に使用できます。
フォトダイオードは、コンパクトディスクプレーヤー、煙探知機、医療機器[ 17 ] 、テレビからエアコンまで機器を制御する赤外線リモコンの受信機などの民生用電子機器に使用されています。多くの用途では、フォトダイオードまたは光導電体のどちらかを使用できます。どちらのタイプの光センサも、カメラの露出計のように光を測定するために使用することも、暗くなってから街灯を点灯させるように光レベルに反応するために使用することもできます。
あらゆる種類の光センサは、入射光または同一回路やシステムの一部である光源に反応するために使用できます。フォトダイオードは、多くの場合、発光ダイオード(LED)などの発光体と一体化され、光路への機械的な障害物の存在を検出するため(スロット型光スイッチ)、または2つのデジタル回路もしくはアナログ回路を結合し、それらの間の電気的絶縁を極めて高く保つため(多くの場合、安全性のため)に使用されます(オプトカプラ)。LEDとフォトダイオードの組み合わせは、多くのセンサシステムにおいて、製品の光吸収に基づいて様々な種類の製品を特性評価するためにも使用されています。
フォトダイオードは、科学や産業分野において光強度を正確に測定するためによく用いられる。一般的に、フォトダイオードは光伝導体よりも線形応答性が高い。
これらは、コンピュータ断層撮影用の検出器(シンチレーターと組み合わせる)、サンプル分析装置(免疫測定法)、パルスオキシメーターなど、さまざまな医療用途にも広く使用されています。
PINダイオードはp-n接合ダイオードよりもはるかに高速で感度が高いため、光通信や照明制御によく用いられる。
P-nフォトダイオードは、極めて低い光強度を測定するために使用されません。代わりに、高い感度が必要な場合は、天文学、分光法、暗視装置、レーザー測距などの用途で、アバランシェフォトダイオード、増感型電荷結合素子、または光電子増倍管が使用されます。
光電子増倍管と比較した場合の欠点:
ピン留めフォトダイオード(PPD)は、P型またはN型(それぞれ)基板層上のN型またはP型拡散層に浅い注入(P+またはN+)が施されており、中間拡散層はバイポーラ接合トランジスタのベース領域のように多数キャリアが完全に空乏化されている。PPD(通常はPNP)はCMOSアクティブピクセルセンサに使用されている。MOSバッファコンデンサと、電荷転送が完全で画像遅延のないバックライト照明方式を備えた前身となるNPNP三重接合型は、1975年にソニーによって発明された。この方式は、電荷転送デバイスの多くの用途で広く使用された。
初期の電荷結合素子イメージセンサーはシャッターラグに悩まされていた。これはピン留めフォトダイオードの再発明によって大部分が説明された。[ 20 ]これは1980年にNECの寺西信和、白木弘光、石原康夫によって開発された。 [ 20 ] [ 21 ]ソニーは1975年に、信号キャリアをフォトダイオードからCCDに転送できればラグをなくせることに気づいた。これが低ラグ、低ノイズ、高量子効率、低暗電流の光検出器構造であるピン留めフォトダイオードの発明につながった。[ 20 ]これは1982年に寺西と石原が小穂野明、小田英樹、新井和夫とともに、アンチブルーミング構造を追加して初めて公表した。[ 20 ] [ 22 ] 1975 年にソニーが発明し、1982 年に NEC が開発し、1984 年にコダックが開発した新しい光検出器構造は、1984 年にコダックの BC Burkey によって「ピン留めフォトダイオード」(PPD) と名付けられました。1987 年に、PPD はほとんどの CCD センサーに組み込まれ始め、民生用電子ビデオカメラ、そしてデジタルスチルカメラの定番となりました。[ 20 ]
低電圧PPD技術を用いたCMOSイメージセンサーは、1995年にJPLとコダックの共同チームによって初めて作製された。PPD技術を用いたCMOSセンサーは、1997年にRM Guidash、2000年にK. YonemotoとH. Sumi、2003年にI. Inoueによってさらに改良・進化を遂げた。これにより、CMOSセンサーはCCDセンサーと同等の撮像性能を実現し、後にCCDセンサーを凌駕するようになった。


数百または数千個のフォトダイオードからなる一次元アレイは、例えば角度センサーの一部として位置センサーとして使用できます。 [ 23 ] 二次元アレイはイメージセンサーや光学マウスで使用されています。
用途によっては、フォトダイオードアレイを用いることで、電荷結合素子(CCD)やCMOSセンサーのように走査回路を組み込むのではなく、高速な並列読み出しが可能になります。写真に示されている光学式マウスチップは、4×4アレイ内の16個のフォトダイオードすべてに並列(多重化ではなく)でアクセスできます。
パッシブピクセルセンサ(PPS)はフォトダイオードアレイの一種です。アクティブピクセルセンサ(APS)の前身です。[ 20 ]パッシブピクセルセンサは、増幅なしで読み出されるパッシブピクセルで構成され、各ピクセルはフォトダイオードとMOSFETスイッチで構成されています。[ 24 ]フォトダイオードアレイでは、ピクセルはp-n接合、集積コンデンサ、および選択トランジスタとしてのMOSFETを含んでいます。フォトダイオードアレイは、CCDに先立つ1968年にG. Wecklerによって提案されました。[ 25 ]これがPPSの基礎となりました。[ 20 ]
フォトダイオードアレイのノイズは、性能を制限する要因となる場合がある。 1970年代には、当時のマイクロリソグラフィー技術が限られていたため、実用的なピクセルサイズの能動ピクセルセンサーを製造することは不可能であった。 [ 25 ]
この記事は、連邦規格1037C(一般調達局)からのパブリックドメイン資料を組み込んでいます。 2022年1月22日にオリジナルからアーカイブされました。
パッケージ材料に不純物として存在するウラン、トリウム、および娘同位体の自然放射性崩壊から放出されるアルファ粒子が、ダイナミックランダムアクセスメモリにおけるソフトエラー率の主な原因であることが判明した。
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