最もよく使用される媒体には、毛細管放電で生成される、または直線状に集束された光パルスが固体ターゲットに当たるときに生成される高電離プラズマが含まれます。サハの電離方程式によれば、最も安定な電子配置は、10個の電子が残るネオン型と、28個の電子が残るニッケル型です。高電離プラズマにおける電子遷移は、通常、数百電子ボルト(eV )程度のエネルギーに対応します。
プラハにあるPALS研究所の真空チャンバーでは、 1kJのパルスによってX線発生用のプラズマが生成される。プラズマX線レーザーを生成する一般的な方法には、以下のようなものがある。
- 毛細管プラズマ放電媒体:この構成では、数センチメートル長の耐熱材料(例えばアルミナ)製の毛細管が、低圧ガス中に高電流、サブマイクロ秒の電気パルスを閉じ込めます。ローレンツ力によりプラズマ放電がさらに圧縮されます(ピンチを参照)。さらに、電離前の電気パルスまたは光パルスがよく使用されます。例として、1994年に初めて実証された、47 nmの放射を生成する毛細管ネオン様Ar 8+レーザーがあります。[ 2 ]
- 固体スラブターゲット媒体:超高強度の光(レーザー)パルスが照射されると、金属ターゲットは蒸発し、高励起プラズマを放出します。ここでも、いわゆる「過渡ポンピング」方式では、通常、一対のパルスが使用されます。[ 3 ] (1) ナノ秒オーダーの長いパルス(場合によっては、1つまたは複数のより短い「プレパルス」が先行する)がプラズマ生成によく使用され、(2) 2番目の、より短い(数百フェムト秒またはピコ秒オーダー)より高エネルギーのパルスが、プラズマ体積内でのさらなる励起に使用されます。寿命が短い場合、いわゆる「進行波」が開発されており、X線光子が通過する直前にプラズマが加熱されます(いわゆる「ギロチン原理」ジオメトリ)。加熱レーザーパルスから活性媒体(プラズマ)へのエネルギー伝達効率を高めるために、せん断励起パルスが使用されることがあり、これはGRIP(斜入射ポンプ)ジオメトリと呼ばれます。プラズマの屈折率勾配により、増幅されたパルスはターゲット表面で曲がってしまう。これは、共鳴周波数以上の周波数では、物質密度の上昇に伴い屈折率が低下するためである。この現象は、湾曲したターゲットを使用するか、複数のターゲットを直列に接続することで補償できる。
- 光場によって励起されるプラズマ:有効な電子トンネル効果を引き起こすのに十分な光密度、あるいは電位障壁を抑制するのに十分な光密度(> 10 16 W/cm 2)では、毛細管やターゲットに接触することなくガスを高度に電離することが可能です。通常は共線配置が用いられ、ポンプパルスと信号パルスの同期が可能になります。
代替の増幅媒体としては、自由電子レーザーにおける相対論的電子ビームが挙げられる。厳密に言えば、これは誘導放出ではなく誘導コンプトン散乱を利用している。
光誘起コヒーレントX線発生の他のアプローチとしては、以下のようなものがある。
参考文献
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