トリシラン

トリシラン
暗黙の水素を含むトリシランの立体構造式	トリシランの球と棒のモデル
名前
	IUPAC名トリシラン
識別子
CAS番号	7783-26-8 ;
3Dモデル（JSmol）	インタラクティブ画像;
ケムスパイダー	122661 ;
ECHA 情報カード	100.132.113
EC番号	616-514-9;
パブケム CID	139070;
ユニ	1T3A75Z4ZL ;
国連番号	3194
CompTox ダッシュボード ( EPA )	DTXSID80884426;
	InChI InChI=1S/H8Si3/c1-3-2/h3H2,1-2H3 キー: VEDJZFSRVVQBIL-UHFFFAOYSA-N ;
	笑顔 [SiH3] [SiH2] [SiH3];
プロパティ
化学式	H 8 Si 3
モル質量	92.319 グラムモル−1
外観	無色の液体
臭い	不快
密度	0.743 g cm −3
融点	−117 °C (−179 °F; 156 K)
沸点	53 °C (127 °F; 326 K)
水への溶解度	ゆっくりと分解する
蒸気圧	12.7kPa
危険
	労働安全衛生（OHS/OSH）：
主な危険	発火性
	GHSラベル:
ピクトグラム
シグナルワード	危険
危険有害性情報	H250、H261、H315、H319、H335
注意事項	P210、P222、P231+P232、P261、P264、P271、P280、P302+P334、P302+P352、P304+P340、P305+P351+P338、P312、P321、P332+P313、P337+P313、P362、P370+P378、P402+P404、P403+P233、P405、P422、P501
引火点	< −40 °C (−40 °F; 233 K)
自然発火; 温度	< 50 °C (122 °F; 323 K)
関連化合物
関連するハイドロシリコン	ジシラン; ジシリン; シラン; シリレン
関連化合物	プロパン
	特に記載がない限り、データは標準状態（25 °C [77 °F]、100 kPa）の材料に関するものです。インフォボックス参照

トリシランは化学式H ₂ Si(SiH ₃ ) _2で表されるシランである。標準温度および圧力下では液体であり、プロパンのシリコン類似体である。しかし、プロパンとは異なり、トリシランは空気中で自然発火する。^[2]

合成

トリシランは、アルフレッド・ストックが塩酸とケイ化マグネシウムの反応によって合成したことにより特徴づけられました。^[3]^{[4]この反応は、1857年に}フリードリヒ・ヴェーラーとハインリッヒ・バフによってすでに研究されており、1902年にアンリ・モアッサンとサミュエル・スマイルズによってさらに研究されました^。[2]

分解

トリシランの重要な特性は熱不安定性です。次の理想的な式に従って、トリシランはシリコン膜と SiH _{4に分解されます。}

Si ₃ H ₈ → Si + 2 SiH ₄

メカニズム的には、この分解は1,2水素シフトによって進行し、ジシラン、ノルマルシランとイソテトラシラン、ノルマルシランとイソペンタシランが生成される。^[5]

トリシランは容易に分解してSiの膜を残すため、半導体などの用途にシリコンの薄層を適用する手段として研究されてきた。^[6] 同様に、トリシランの熱分解によりシリコンナノワイヤが得られる。^[7]

参考文献

^ Alfred Walter Stewart (1926). Recent Advances in Physical and Inorganic Chemistry. Longmans, Green and Company, Limited. p. 312 . 2021年5月11日閲覧。
^ ab PW Schenk (1963). 「シラン」。G. Brauer (編)無機化学ハンドブック、第 2 版。第 1 巻。NY、NY: Academic Press。p. 680。
^ ストック、アルフレッド;カール・ソミエスキ (1916)。「Siliciumwasserstoffe. I. Die aus Magnesiumsilicid und Säuren entstehenden Siliciumwasserstoffe」。Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft。49 : 111–157 .土井:10.1002/cber.19160490114。
^ ストック、アルフレッド;シュティーベラー、ポール。ザイドラー、フリードリヒ (1923)。「Siliciumwasserstoffe、XVI.: 水素化ケイ素をヘヘレン」。Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft (A および B シリーズ)。56 (7): 1695 ～ 1705 年。土井:10.1002/cber.19230560735。
^ Vanderwielen, AJ; Ring, MA; O'Neal, HE (1975). 「メチルジシランおよびトリシランの熱分解の速度論」アメリカ化学会誌. 97 (5): 993– 998. doi :10.1021/ja00838a008.
^ 米国特許出願公開。公開番号 US 2012/0252190 A1、2012 年 10 月 4 日。Zehavi 他。
^ Heitsch, Andrew T.; Fanfair, Dayne D.; Tuan, Hsing-Yu; Korgel, Brian A. (2008). 「シリコンナノワイヤの溶液−液体−固体（SLS）成長」。アメリカ化学会誌。130 （16）：5436– 5437。doi ：10.1021/ja8011353。PMID 18373344 。

[solubility-1] Alfred Walter Stewart (1926). Recent Advances in Physical and Inorganic Chemistry. Longmans, Green and Company, Limited. p. 312 . 2021年5月11日閲覧。

[Brauer-2] PW Schenk (1963). 「シラン」。G. Brauer (編)無機化学ハンドブック、第 2 版。第 1 巻。NY、NY: Academic Press。p. 680。

[3] ストック、アルフレッド;カール・ソミエスキ (1916)。「Siliciumwasserstoffe. I. Die aus Magnesiumsilicid und Säuren entstehenden Siliciumwasserstoffe」。Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft。49 : 111–157 .土井:10.1002/cber.19160490114。

[4] ストック、アルフレッド;シュティーベラー、ポール。ザイドラー、フリードリヒ (1923)。「Siliciumwasserstoffe、XVI.: 水素化ケイ素をヘヘレン」。Berichte der Deutschen Chemischen Gesellschaft (A および B シリーズ)。56 (7): 1695 ～ 1705 年。土井:10.1002/cber.19230560735。

[5] Vanderwielen, AJ; Ring, MA; O'Neal, HE (1975). 「メチルジシランおよびトリシランの熱分解の速度論」アメリカ化学会誌. 97 (5): 993– 998. doi :10.1021/ja00838a008.

[6] 米国特許出願公開。公開番号 US 2012/0252190 A1、2012 年 10 月 4 日。Zehavi 他。

[7] Heitsch, Andrew T.; Fanfair, Dayne D.; Tuan, Hsing-Yu; Korgel, Brian A. (2008). 「シリコンナノワイヤの溶液−液体−固体（SLS）成長」。アメリカ化学会誌。130 （16）：5436– 5437。doi ：10.1021/ja8011353。PMID 18373344 。