ヘキサメチルジシロキサン

ヘキサメチルジシロキサン
名前
	推奨されるIUPAC名ヘキサメチルジシロキサン
	その他の名前ビス(トリメチルシリル)エーテル; ビス(トリメチルシリル)オキシド;
識別子
CAS番号	107-46-0 ;
3Dモデル（JSmol）	インタラクティブ画像;
略語	HMDSO、(TMS) 2 O
バイルシュタイン参考文献	1736258
チェビ	チェビ:78002 ;
ケムスパイダー	23150 ;
ECHA 情報カード	100.003.176
EC番号	203-492-7;
メッシュ	ヘキサメチルジシロキサン
パブケム CID	24764;
RTECS番号	JM9237000;
ユニ	D7M4659BPU ;
国連番号	1993
CompTox ダッシュボード ( EPA )	DTXSID4026769;
	InChI InChI=1S/C6H18OSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h1-6H3 キー: UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N ; InChI=1/C6H18OSi2/c1-8(2,3)7-9(4,5)6/h1-6H3 キー: UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYAL;
	笑顔 O([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C;
プロパティ
化学式	C 6 H 18 Oシリコン2
モル質量	162.379 グラムモル−1
外観	無色の液体
密度	0.764 g·cm −3
融点	−59 °C (−74 °F; 214 K)
沸点	100 ～ 101 °C (212 ～ 214 °F; 373 ～ 374 K)
水への溶解度	930.7±33.7ppb （ 23 ℃）
蒸気圧	43 hPa (20 °C)
屈折率( n D )	1.377
危険
	労働安全衛生（OHS/OSH）：
主な危険	非常に可燃性の高い液体および蒸気; 重度の目の炎症を引き起こす;
	GHSラベル:
ピクトグラム
シグナルワード	危険
危険有害性情報	H225、H410
注意事項	P210、P233、P240、P273、P403+P235
NFPA 704 (ファイアダイヤモンド)	1 4 0
引火点	−1(1) ℃
関連化合物
関連化合物	ジシロキサン; テトラメチルシラン; ジメチルエーテル; ビス(トリメチルシリル)アミン; テトラキス(トリメチルシリルオキシ)シラン;
	特に記載がない限り、データは標準状態（25 °C [77 °F]、100 kPa）の材料に関するものです。確認する（何ですか？）インフォボックス参照

ヘキサメチルジシロキサン（HMDSOまたはMM）は、化学式O[Si(CH ₃ ) ₃ ] _2の有機ケイ素化合物です。この揮発性の無色の液体は、有機合成の溶媒および試薬として使用されます。これは、トリメチルシリルクロリドの加水分解によって生成されます。この分子は典型的なジシロキサンであり、ポリジメチルシロキサンのサブユニットに似ています。

合成と反応

ヘキサメチルジシロキサンは、精製水にトリメチルシリルクロリドを加えることで生成できます。

2 Me ₃ SiCl + H ₂ O → 2 HCl + O[Si(CH ₃ ) ₃ ] ₂

_{また、シリルエーテルやその他のシリル保護官能基の加水分解によっても生成されます。HMDSOはMe 2} SiCl ₂との反応により塩化物に戻すことができます。^[3]

ヘキサメチルジシロキサンは、主に有機合成においてトリメチルシリル官能基（-Si(CH ₃ ) ₃ ）の供給源として使用されます。例えば、酸触媒の存在下では、アルコールとカルボン酸をそれぞれシリルエーテルとシリルエステルに変換します。^[4]

これはレニウム(VII)酸化物と反応してシロキシドを生成する： [ ^5]

Re ₂ O ₇ + O[Si(CH ₃ ) ₃ ] ₂ → 2 O ₃ ReOSi(CH ₃ ) ₃

ニッチな用途

^{HMDSO は、 1}H NMR 分光法における化学シフトの較正用内部標準として使用されます。通常の標準テトラメチルシランよりも揮発性が低いため、取り扱いが容易ですが、それでも 0 ppm 付近ではシングレットのみを表示します。

HMDSO はアルカンよりもさらに溶解力が弱いため、親油性の高い化合物を結晶化するのに使われることもあります。

キャビロンスプレーなどの液体包帯（スプレー式絆創膏）に使用され、傷ついた皮膚を他の体液による刺激から保護します。また、医療用テープや包帯の粘着剤の残留物を柔らかくして除去し、皮膚へのさらなる刺激を起こさないようにするためにも使用されます。

HMDSO は、プラズマ強化化学気相成長法(PECVD) による半導体産業向けの低誘電率誘電体材料の製造に研究されています。

_{HMDSOは、組織酸素分圧（ pO2} ）を測定するためのレポーター分子として使用されています。HMDSOは疎水性が高く、ガス溶解性が高いため、pO2の変化に対する核磁気共鳴スピン格子緩和率（R1）の応答が強くなります_。分子の対称性により、単一のNMR信号が得られます。組織に直接注入した後、高酸素ガス呼吸の課題に対する腫瘍と筋肉の酸素化ダイナミクスのマップを作成するために使用されています。^[6]

参考文献

^ Sudarsanan Varaprath、Cecil L. Frye 、Jerry Hamelink (1996)。「ペルメチルシロキサン（シリコーン）の水溶解度」。環境毒性学および化学。15 (8): 1263–1265。doi :10.1002/etc.5620150803。
^ abcde 労働安全衛生研究所のGESTIS物質データベースにおけるヘキサメチルジシロキサンの記録、2021年11月10日にアクセス。
^ Röshe, L.; John, P.; Reitmeier , R. 「有機ケイ素化合物」Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry . John Wiley and Sons: サンフランシスコ、2003年。doi :10.1002/14356007.a24_021。
^ Pfeifer, J. 「ヘキサメチルジシロキサン」『Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis』（編：L. Paquette）2004年、J. Wiley & Sons、ニューヨーク。doi :10.1002/047084289X。
^ Schmidt, M.; Schmidbaur, H.、「トリメチルシリルペルレネート」、Inorg. Synth. 1967, 9, 149-151. doi :10.1002/9780470132401.ch40
^ Kodibagkar VD、Cui W、Merritt ME、Mason RP。ヘキサメチルジシロキサンを使用した定量的組織酸素濃度測定への新しい1H NMRアプローチ。Magn Reson Med 2006;55:743–748およびKodibagkar VD、Wang X、Pacheco-Torres J、Gulaka P、Mason RP。組織酸素化レベルをマップするためのシロキサンの陽子イメージング（PISTOL）：定量的組織酸素濃度測定のためのツール。NMRBiomed 2008;21:899-907。

[1] ^ Sudarsanan Varaprath、Cecil L. Frye 、Jerry Hamelink (1996)。「ペルメチルシロキサン（シリコーン）の水溶解度」。環境毒性学および化学。15 (8): 1263–1265。doi :10.1002/etc.5620150803。

[GESTIS-2] 労働安全衛生研究所のGESTIS物質データベースにおけるヘキサメチルジシロキサンの記録、2021年11月10日にアクセス。

[Roeshe-3] ^ Röshe, L.; John, P.; Reitmeier , R. 「有機ケイ素化合物」Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry . John Wiley and Sons: サンフランシスコ、2003年。doi :10.1002/14356007.a24_021。

[4] ^ Pfeifer, J. 「ヘキサメチルジシロキサン」『Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis』（編：L. Paquette）2004年、J. Wiley & Sons、ニューヨーク。doi :10.1002/047084289X。

[5] Schmidt, M.; Schmidbaur, H.、「トリメチルシリルペルレネート」、Inorg. Synth. 1967, 9, 149-151. doi :10.1002/9780470132401.ch40

[6] Kodibagkar VD、Cui W、Merritt ME、Mason RP。ヘキサメチルジシロキサンを使用した定量的組織酸素濃度測定への新しい1H NMRアプローチ。Magn Reson Med 2006;55:743–748およびKodibagkar VD、Wang X、Pacheco-Torres J、Gulaka P、Mason RP。組織酸素化レベルをマップするためのシロキサンの陽子イメージング（PISTOL）：定量的組織酸素濃度測定のためのツール。NMRBiomed 2008;21:899-907。