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集積回路のレイアウト設計（トポグラフィー）は、知的財産権の保護における分野の一つである。
米国の知的財産法において、「マスクワーク」とは、集積回路（ICまたは「チップ」）の2次元または3次元のレイアウトまたはトポグラフィー、すなわち、トランジスタなどの半導体デバイスと、抵抗器や相互接続などの受動電子部品をチップ上に配置したものを指します。このレイアウトがマスクワークと呼ばれるのは、フォトリソグラフィー工程において、実際のIC内部の複数のエッチング層がそれぞれ、フォトマスクと呼ばれるマスクを用いて作成され、特定の場所で光を透過または遮断するようになっているためです。場合によっては、1枚のウェハ上の数百個のチップに対して同時に光透過または遮断が行われることもあります。
マスクの形状は機能的な性質を持つため、そのデザインは（装飾美術としての場合を除いて）著作権法の下で効果的に保護することはできません。同様に、個々のリトグラフマスク作品は明確に保護対象とは言えないため、作品に実装されたプロセスは特許取得可能であるにもかかわらず、特許法の下で効果的に保護することもできません。そのため、1990年代以降、各国政府は、特定のレイアウトの複製に対して期間を限定した独占権を与える、著作権に類似した独占権を付与してきました。集積回路の権利の期間は、通常、写真に適用される著作権よりも短くなっています。
1989年にワシントンDCで外交会議が開催され、集積回路に関する知的財産条約（ワシントン条約またはIPIC条約とも呼ばれる）が採択された。1989年5月26日にワシントンで署名されたこの条約は、国際連合（UN）世界知的所有権機関（WIPO）の加盟国および一定の基準を満たす政府間機関に開放されている。この条約は、世界貿易機関（WTO）のTRIPS協定に参照により組み込まれているが、以下の修正が加えられている。保護期間は、出願日または世界での最初の商業的利用日から少なくとも10年（8年ではなく）であるが、加盟国はレイアウト設計の作成日から15年の保護期間を定めることができる。権利者の排他的権利は、保護されたレイアウト設計が組み込まれた集積回路を組み込んだ物品にも及ぶが、それは違法に複製されたレイアウト設計を引き続き含んでいる限りにおいてである。レイアウトデザインを権利者の同意なしに使用できる状況はより制限されており、意図せず行われた特定の行為は侵害には当たらない。[ 1 ]
IPIC条約は現在発効していないが、TRIPS協定に部分的に組み込まれている。
IPIC条約に関連するTRIPS協定第35条は次のように規定している。[ 1 ]
加盟国は、集積回路のレイアウト設計（トポロジー）（本協定では「レイアウト設計」という）を、集積回路の知的財産に関する条約の第2条から第7条（第6条第3項を除く）、第12条、および第16条第3項に従って保護すること、および以下の規定を遵守することに同意する。
IPIC条約第2条では、以下の定義が規定されている。
（i）「集積回路」とは、最終形態または中間形態において、少なくとも１つの能動素子を含む素子、および相互接続の一部または全部が材料片内および／または材料片上に一体的に形成され、電子機能を実行することを意図した製品をいう。
（ii）「レイアウト設計（トポグラフィー）」とは、集積回路の要素（少なくとも１つはアクティブ要素である）および相互接続の一部または全部の三次元配置（表現方法を問わず）、または製造を目的とした集積回路用に準備されたそのような三次元配置を意味する。
IPIC条約に基づき、各締約国は、当該集積回路が物品に組み込まれているか否かにかかわらず、自国の領域全体において、集積回路のレイアウト設計（トポグラフィー）に関する排他的権利を確保する義務を負う。この義務は、作成者自身の知的努力の成果であり、作成当時、レイアウト設計の作成者および集積回路製造業者の間で一般的ではなかったという意味で独創的なレイアウト設計に適用される。
締約国は、少なくとも、権利者の許可なく行われた以下の行為を違法とみなさなければならない。すなわち、レイアウト設計の複製、およびレイアウト設計またはレイアウト設計が組み込まれた集積回路の商業目的での輸入、販売その他の頒布である。ただし、私的目的、または評価、分析、研究もしくは教育のみを目的とする場合は、特定の行為を自由に行うことができる。
米国法典（USC）は、マスクワークを「半導体チップ製品の層に存在するか除去された金属、絶縁体、または半導体材料の所定の三次元パターンを有するか表現する、固定または符号化された一連の関連画像であり、各画像が半導体チップ製品の一形態の表面パターンを有するような相互関係にあるもの」と定義している（17 USC § 901(a)(2)）。マスクワークの独占権は、1984年の半導体チップ保護法によって米国で初めて付与された。
米国著作権法第17編 第904条によれば、半導体マスクワークの権利は10年間存続します。これは、企業著作者による現代の著作物の95年間の存続期間とは対照的です。マスクワークの権利侵害の申し立ては、法定の公正使用の抗弁によっても、米国著作権法第17編第117条がコンピュータソフトウェアに規定する一般的なバックアップコピーの免除によっても保護されません。しかしながら、著作物における公正使用は、 1976年の著作権法で成文化される1世紀以上前に司法によって認められていたため、裁判所がマスクワークにも同様の抗弁が適用されると考える可能性はあります。
マスク着用作業保護に関する通知で使用される非義務的な記号は、Ⓜ（円で囲まれたM 、 UnicodeコードポイントU+24C2/U+1F1ADまたはHTML数値文字実体Ⓜ/ 🆭）または*M*です。
マスクワークにおける排他的権利は、著作権の権利といくらか類似しています。すなわち、マスクワークを複製する権利、または（初期段階では）マスクワークを用いて製造されたICを配布する権利です。最初の販売の原則と同様に、マスクワークを含む認可されたICの正当な所有者は、チップ（またはマスク）を自由に輸入、配布、または使用できますが、複製することはできません。マスクワークの保護は、独自の権利、つまり、他の（より一般的な）法律では不十分または不適切な特定の権利を保護するために創設された権利として特徴づけられます。
マスクワーク所有者に付与される排他的権利は、著作権者や特許権者に付与される権利よりも制限されていることに注意が必要です。例えば、改変（派生作品）はマスクワーク所有者の排他的権利ではありません。同様に、特許権者が発明を「使用する」排他的権利は、同一の形状を持つ独自に作成されたマスクワークを禁止するものではありません。さらに、マスクワークのリバースエンジニアリングのための複製は、法律で明確に認められています。著作権と同様に、マスクワークの権利は登録の有無にかかわらず、作成された時点で発生します。一方、特許は出願、審査、発行後にのみ権利が付与されます。
マスクワーク権は、特許権や商標権といった他の排他的権利よりも、著作権との共通点が多い。一方で、コンピュータソフトウェアを格納するようにエンコードされた読み出し専用メモリ（ROM）コンポーネントを保護するために、著作権と併用されることもある。
カートリッジ式ビデオゲーム機向けソフトウェアの発行者は、複数の法的枠組みの下で同時に自社の財産権の保護を求めることができる。
通常の著作権法は、基となるソフトウェア（ソース、バイナリ）およびオリジナルのキャラクターやアートに適用されます。しかし、マスクROMの形式で配布される作品における追加の独占的権利の有効期限は、まだ確定していない法律によって決まります。§902(b)の独創性要件に関する未検証の解釈：
（b）この章に基づく保護（すなわち、マスク着用作業としての保護）は、以下のマスク着用作業には適用されない。
- （１）オリジナルではない、または
- （２）半導体産業において一般的、ありふれた、または馴染みのある設計、もしくはそのような設計の変形を、全体として独創的ではない方法で組み合わせたもの
ある解釈によれば、特定のゲームタイトルを含むマスクワークは、マスクROM全般が馴染みのあるデザインである可能性が高いため、完全に独創性に欠けるか、あるいはその地域でそのコンソール向けに最初にリリースされたタイトルのいずれかのマスクワークのマイナーチェンジ版である。
回路レイアウト設計を保護する法律は、世界中で存在している。