若いころ 林は中国南部の福建省 莆田 市で生まれた。
林蘭英は、600年前の明王朝 まで遡る由緒ある大家族の長女として生まれた。[ 1 ] [ 3 ] [ 2 ] 彼女の姉妹たちは幼くして嫁い だり、殺されたりした。蘭英は6歳になる前に、家族全員の洗濯や料理をしなければならなかった。
彼女の祖先である林潤は明王朝時代の監察官でした。監察官とは、他の官僚を統制・監督する役職でした。林潤は在職中に、国家権力に挑戦する二人の有力者と対峙しました。皇帝が二人の挑戦者に対処するのを手伝ったことで、皇帝は林潤に家を建てるための資金を与えました。その家は現在、林潤老家と呼ばれています。林家の人々は皆、この家で生まれ育ちました。[ 4 ]
教育 6歳の時、彼女は家事や他の女性たちと一日中おしゃべりするよりも学校に行きたいと思った。唯一の逃げ道は教育だった。母親は中国の社会的な性別規範 に深く影響を受けており、彼女に教育を受けさせることを禁じた。リンは自分の部屋に閉じこもり、学校に行かせてもらえない限り食事はしないと誓った。母親は彼女の強い意志に心を動かされ、ついに李清小学校への入学を許した。リンはクラスでいつも最高の成績を収めていたが、洗濯や料理はすべて彼女に任されていた。そして、夜中の12時まで勉強することがよくあった。彼女は起きて料理をし、それから学校へ行った。6時間睡眠の習慣は生涯続いた。
彼女は李清中学校に進学するために、同様の苦闘を強いられた。母親は、女性である以上、読み書き能力は 関係ないと言った。彼女は、学費が必要ないなら進学できると母親を説得した。この中学校は、各学期に成績上位3名の生徒に奨学金を提供していた。林は毎学期、奨学金を獲得した。
中学を卒業後、林蘭英は莆田高等学校に入学した。中学での成績が良かったため、母親はついに彼女の進学を認めた。しかし、林蘭英はこの学校に1年しか在籍しなかった。日本が中国と戦争になり、多くの中国人が殺された。多くの生徒が怒り、日本をボイコットするデモ 行進を行った。中国には多くの日本兵や工作員がいたため、デモ行進は鎮圧され、生徒の中には殺された者もいた。林蘭英はハミ・ルトン女学校という女子校に転校した。教師の一人はアメリカ出身で中国語があまり得意ではなかったため、クラスメートの多くは彼の授業を理解できなかった。林蘭英は助手として教師を手伝った。教師が英語で何かを教えるときは、林蘭英が通訳した。そのため、彼女は「小さな先生」と呼ばれた。
彼女は当時中国でトップクラスの大学であった福建キリスト教大学 で研究を続けた。22歳で物理学 の学士号を取得し、クラスでトップクラスの成績で卒業した。彼女は同大学で8年間勤務し、そのうち4 年間 は 力学などの基礎科目を教える助手として働いた。彼女の最初の著書は『光学実験コース』 で、教授の資格も取得した。
キャリア
アメリカ合衆国 蘭英は卒業後、中国に帰国したいと考えていた。しかし、当時の中国の政治情勢は芳しくなかった。米国は科学者、特に留学生にとって多くの機会を提供しており、多くの中国人学生は帰国を許されなかった。ペンシルベニア大学の教授の推薦を受け、彼女は主に半導体を 製造するシルバニア社で上級エンジニア として働くことを決意した。当時、同社は単結晶シリコンの製造に幾度も失敗していた。蘭英は問題点を発見し、同社がシリコン技術を成功裏に開発できるよう尽力した。
中国 林がアメリカで1年間働いた後、中国は1956年のジュネーブ会議 で留学生に関する条約に署名した。1957年1月6日、林は8年ぶりに中国に帰国した。乗船直前、連邦捜査局が 林に近づき、留まるよう説得するために、その年の収入6,800米ドルを差し押さえると脅した。林はこれを受け入れ、船に乗り込んだ。[ 6 ]
彼女の給料は月わずか207人民元、つまり20ドルだったため、彼女の家族は貧しいままだった。彼女の職場は資金が乏しかった。しかし、彼女は決して諦めなかった。1957年、彼女の職場である中国科学院半導体研究所は、中国で最初の単結晶ゲルマニウム の製造を完了した。シルバニア社での経験から、彼女は単結晶シリコンの製造プロセスを知っていた。しかし、他国からの禁輸措置 のため、彼女は装置を入手できなかった。彼女はプロセスを改良し、1958年に中国初の単結晶シリコンを製造した。中国は単結晶シリコンを製造した3番目の国となった。1962年、彼女は単結晶炉を設計した。この炉は多くの国にライセンス供与された。同年、彼女は中国で最初の単結晶ガリウムヒ素を 製造した。林のガリウムヒ素は、当時最高の移動度を達成した。
文化大革命 が勃発した。1966年から1976年にかけて、中国では数十億もの人々がその影響を受けた。教育者や科学者は皆弾圧された。林は研究活動を禁じられ、当局の監視下で自室に閉じこもることを余儀なくされた。林の教育者であった父親は、若者たちによる暴行で命を落とした。
悲劇にもかかわらず、彼女は文化大革命後、60歳で研究を続けた。彼女は、既存のガリウムヒ素 の転位密度が重力によって大きく、実用には不十分であることを発見し、人工衛星 で実験を行うことを決意した。ガリウムヒ素の融点は摂氏1,238度 であるため、これは危険な実験であった。しかし、彼女は実験を成功させ、世界で初めてそれを成し遂げた。ガリウムヒ素に関するこの研究により、中国政府は2001年にガリウムヒ素会社(中国語:中科稼英 [ 7 ] )を彼女にちなんで命名した。
1996年、78歳で癌と診断された。彼女は中国南部で半導体産業基盤の構築に尽力していた。診断を受けた時、彼女は「誰かあと10年ください。10年あれば、必ずやり遂げられるし、後悔なく死ねます!」と訴えた。文化大革命で失った10年を取り戻したいと願っていたのだ。 2003年3月4日午後1時、彼女は息を引き取った。
ジェンダー問題に関する意見 彼女は生涯を通じて女性として困難に直面した。米国から帰国後、彼女は中華全国婦女連合会 に加入した。[ 8 ] 彼女は多くの会議を開催し、ジェンダー問題について語った。女性として、彼女は性別役割 を受け入れず、常に自分のために闘った。彼女は科学分野では女性と男性は平等であり、この分野に女性が少ない理由は、女性はゴシップなどに気を取られやすく、そのため女性は無関係なことをより多く記憶しなければならず、仕事に集中できないからだと信じていた。
個人的な関係
キチャン・グアンとチェン・リン 林は結婚しなかったが、二人の男性を愛した。[ 2 ] 一人目は関啓昌だった。蘭英と啓昌は同じ中学校の別々のクラスだった。卒業後、啓昌は両親と別の都市へ行ったため、二人は離れ離れになった。しかし、手紙で連絡を取り続けた。啓昌は蘭英に、彼女と結婚して中学校の教師として働きたいと伝えた。しかし、蘭英の方が野心的だった。二人は次第に手紙のやり取りをやめた。啓昌は17歳で白血病 で亡くなった。
彼女も程林を愛していた。二人は福建キリスト教大学で出会った。二人は同じ趣味を持ち、どちらも野心家だった。卒業後、二人とも大学に残り、教師として働いた。しかし、蘭英はもっと多くのことを学びたいと思い、アメリカに行くことを決めたため、二人は別れた。程林は林がアメリカに行った後に結婚した。二人の物語は小説『二度目の握手』 に描かれている。[ 9 ]
功績と栄誉 リンは多くのフォーラムで認められた:[ 3 ]
1957年:中国で初めて単結晶ゲルマニウム(N型とP型)を製造し、トランジスタラジオ の開発の基礎を築いた。1958年:単結晶アンチモン化ガリウムを合成 1958年11月、初の単結晶シリコンを製造 1959年:単結晶硫化カドミウムを製造 1960年:シリコンの原料となる幅広い材料を製造 1962年:中国でTDKという名の初の単結晶炉を製造 1962年:中国で初めて位置ずれのない単結晶シリコンを製造 1962年:最高純度の単結晶インジウムアンチモンを 初めて製造 1962年:初の単結晶ガリウムヒ素を合成 1963年:中国で初の半導体レーザーを開発 1963年:高純度シリコンを製造し、国家科学技術功績賞の二等賞を受賞。 1964年:低位置ずれシリコン製造プロセスを設計し、国家科学技術業績賞第2位を受賞。 1974年:位置ずれのない初の単結晶ガリウムヒ素を作製 1978年:中国科学院科学技術重要業績賞を受賞 1981年:集積回路を製作し、中国科学院重要科学技術業績賞を受賞。 1986年:SOS-CMOS集積回路を開発し、国家科学技術成果賞の三等賞を受賞。 1989年:GaInAsSb/ InP 広域材料の研究を行い、国家科学技術成果賞第2位を受賞。 1989年:人工衛星におけるガリウムヒ素の融解実験に成功し、国家科学技術成果賞第3位を受賞。 1990年~1991年:国家科学技術成果賞の三等賞を4回受賞 1991年:5種類の異なるSOS-CMOS集積回路回路を用いて衛星を製作した。 1992年:単結晶リン化インジウムを製造 1998年:多種多様な材料を液化することで、効果的なガリウムヒ素太陽電池を製造した。 1990年~2000年: SiC 、GaN 材料の研究を主導し、高温材料における新たな成長技術を確立した。
社会活動 彼女の社会活動には以下が含まれます: [ 3 ]
政治活動 林は様々な政治活動に参加した。[ 3 ]
1962年:中華全国青年連合会 副会長に就任1964年12月、第3回全国人民代表大会の代表および全国人民代表大会常務委員に就任。 1975年1月、第4期全国人民代表大会の代表に就任。 1978年2月、第5期全国人民代表大会の代表に就任。 1978年9月~1983年、中華全国婦女連合会(ACWF)の会員となる。 1978年:中国電子学会(CIE)の委員に就任 1979年7月、中国電子学会(CIE)の常務理事に就任。 1980年4月、中国科学技術協会(CAST)の第二副会長に就任。 1981年5月、中国科学院(CAS)技術部の部長に就任。 1982年9月、中国共産党第12回全国 代表に選出される。1983年5月、第6期全国人民代表大会の代表に就任。 1986年:中国科学技術協会(CAST)の第三副会長に就任。 1988年3月、第7期全国人民代表大会の代表および全国人民代表大会常務委員に就任。 1988年:中国電子学会(CIE)の名誉理事に就任 1991年:中国科学技術協会(CAST)の第4代副会長に就任。 1993年3月、第8期全国人民代表大会の代表および全国人民代表大会常務委員に就任。 1996年:国家微小 重力重点実験室の所長に就任
主な出版物 彼女の多くの出版物の中には、次のものがある。[ 10 ]
超音波アブラハムス・ブイオッキエッチングにより明らかになった半絶縁性ガリウムヒ素中の転位と析出物[ 11 ] 半絶縁性GaAsにおける化学量論的欠陥(Wayback Machine に2016年3月4日に アーカイブ済み) [ 12 ] GaAs-AlGaAs変調ドープヘテロ構造における界面粗さ散乱[ 13 ] 高重力下でのGaAs単結晶の成長[ 14 ] 微小重力下で成長させた半絶縁性ガリウムヒ素の化学量論の改善[ 15 ] 高純度GaAsにおける束縛フォノンの磁気分光法[ 16 ] AlxGa12xAsバリアにおけるDX中心がGaAs/AlGaAs変調ドープヘテロ構造における二次元電子ガスの低温密度と移動度に及ぼす影響[ 17 ] 半絶縁性GaAsショットキーパッドが活性層のショットキー障壁に及ぼす影響[ 18 ] GaAs金属半導体電界効果トランジスタにおけるバックゲーティングと光感度[ 19 ] α-Si:H膜におけるSW効果の光子エネルギー依存性[ 20 ] 高濃度ホウ素ドープシリコン中の格子間酸素のニュートロン照射赤外線ベース測定法[ 21 ] 微小重力条件下で成長させたGaAs単結晶の特性と応用 [ 22 ] 高重力条件下でのGaAs単結晶成長の予備結果[ 23 ] 低重力環境で成長させた Te および Si ドープ GaAs の不純物および欠陥の空間分布 ( 2015 年 12 月 8 日 アーカイブ) [ 24 ] リンおよびリン化鉄雰囲気中で焼鈍されたInPの微細欠陥と電気的均一性[ 25 ] メソポーラスゼオライト中のCdSクラスターの形成、構造、および蛍光[ 26 ] 新規な二重ヘテロエピタキシャルSOI構造Si/γ-Al2O3 / Si の作製[ 27 ] ゼオライトY中の銀クラスターの光刺激発光[ 28 ] アニール処理された無添加半絶縁性InPウェーハの欠陥特性とウェーハ全体の均一性[ 29 ] 多段階プロセスによるシリコン上への高品質γ-Al2O3膜の 超 低圧VLP-CVD成長[ 30 ] ゼオライトYにおけるCdSクラスターの形成と光学特性に関するいくつかの新しい観察[ 31 ] ゼオライト5A中のSe8 環クラスターの吸収スペクトル[ 32 ] MOVPEによる単相領域でのGaSbおよびGaAsSbの成長[ 33 ] 高純度LPE-GaAsの成長と特性[ 34 ] BaFCl:Eu 2+の新しいカラーセンターと光刺激発光 [ 35 ] サファイア上の自己注入および再結晶シリコンのチャネリング解析[ 36 ] 宇宙空間で成長した半絶縁性GaAs [ 37 ] 中性子照射により、水素雰囲気中で成長したシリコン結晶からフォトルミネッセンスが誘発された [ 38 ] 金属有機気相エピタキシー法で成長させたGaNバッファ層と高濃度SiドープGaNの特性に対する厚さの影響[ 39 ] 有機金属気相エピタキシーによるGaNバッファ層の成長速度の成長パラメータへの依存性[ 40 ] InGaAs/GaAs量子ドット超格子の自己組織化[ 41 ] ゼオライトY中のCdSクラスターの熱ルミネセンス[ 42 ]
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