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tert-ブチルオキシカルボニル保護基またはtert-ブトキシカルボニル保護基[1]（BOC基）は、有機合成で使用される酸に不安定な保護基です。
BOC基は、水酸化ナトリウムなどの塩基の存在下でジ-tert-ブチルジカーボネートを使用して水性条件下でアミンに付加することができる。
アミンの保護は、4-ジメチルアミノピリジン(DMAP) を塩基として 使用してアセトニトリル溶液中で実行することもできます。
アミノ酸のBOC基の除去は、ジクロロメタン中のトリフルオロ酢酸などの強酸、またはメタノール中のHClで行うことができます。[2] [3] [4] t-ブチルカチオン中間体は他の求核剤をアルキル化する傾向があるため、複雑な場合があります。アニソールやチオアニソールなどのスカベンジャーを使用できます。[5] [6] AlCl 3を使用すると、他の保護基の存在下でのN -Boc基 の選択的切断が可能です。
トリメチルシランヨウ化物とメタノールの連続処理もBoc脱保護に使用できる[7] [8]。特に他の脱保護法が基質に対して強すぎる場合に用いられる。[9]この機構はカルボニル酸素のシラン化とtert-ブチルヨウ化物の除去（1）、シランエステルのカルバミン酸へのメタノリシス（2）、そして最後にアミンへの脱炭酸（ 3）を伴う。[10]
アミン保護
tert-ブチルオキシカルボニル（Boc ）基は、有機合成においてアミンの保護基として使用されます。
一般的なアミン保護法
- 常温で水中に懸濁したアミンとジ-tert-ブチルジカーボネート（Boc 2 O）の混合物を単純に急速に撹拌する。これは水中反応の一例である。[11]
- 保護すべきアミンとジ-tert-ブチルジカーボネートの混合物をテトラヒドロフラン（THF）中で40℃で加熱する[12]
- 0℃で水酸化ナトリウムとジ-tert-ブチルジカーボネートを水とTHFに加え、その後室温まで温める。[13]
- 保護すべきアミンとジ-tert-ブチルジカーボネートの混合物をクロロホルムと重炭酸ナトリウム水溶液の二相混合物中で90分間加熱還流する。[14]
- アミンをジ-tert-ブチルジカーボネート、4-ジメチルアミノピリジン（DMAP）、アセトニトリル（MeCN）に室温で加える[15]
BOC保護アミンは、試薬ジ-tert-ブチルイミノジカルボキシレートを使用して調製されます。この試薬は、脱プロトン化により、二重にBOC保護されたNH源を提供します。−
2、これはN -アルキル化することができます。このアプローチは、アミンのガブリエル合成を補完します。
一般的なアミン脱保護法
- 脱保護すべき保護カルバメートを酢酸エチル中の3M塩酸（HCl）と室温で30分間混合する[16]
- カルバメートを塩酸水溶液とトルエンの混合液中で65℃で加熱する[17]
- 目的の保護化合物をジクロロメタンとトリフルオロ酢酸の50/50混合物に溶解する[18]
参考文献
- ^ 「保護基の略語に関する規則」（PDF） . IUPAC . iupac.org. 2013年。
- ^ Robert M. Williams、Peter J. Sinclair、Duane E. DeMong、Daimo Chen、Dongguan Zhai (2003)。「N-tert-ブトキシカルボニルα-アミノ酸の不斉合成。(5S,6R)-4-tert-ブトキシカルボニル-5,6-ジフェニルモルホリン-2-オン(4-モルホリンカルボン酸、6-オキソ-2,3-ジフェニル-、1,1-ジメチルエチルエステル、(2S,3R)-)]の合成」。有機合成。80 :18。doi : 10.15227 /orgsyn.080.0018。
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