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| 名前 | |
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| その他の名前
テルル化ガリウム
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| 識別子 | |
3Dモデル(JSmol)
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| ケムスパイダー |
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| ECHA 情報カード | 100.031.524 |
| EC番号 |
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パブケム CID
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CompTox ダッシュボード ( EPA )
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| プロパティ | |
| ゲート | |
| モル質量 | 197.32 グラム/モル |
| 外観 | 黒のピース |
| 密度 | 5.44 g/cm 3、固体 |
| 融点 | 824 °C (1,515 °F; 1,097 K) |
| 構造 | |
| 六角形、hP8 | |
| P6 3 /mmc、No.194 | |
| 危険 | |
| NFPA 704 (ファイアダイヤモンド) | |
| 関連化合物 | |
その他の陰イオン
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酸化ガリウム(II)、硫化ガリウム(II)、一セレン化ガリウム |
その他の陽イオン
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テルル化亜鉛(II)、テルル化ゲルマニウム(II)、テルル化インジウム(II) |
関連化合物
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ガリウム(III)テルル化物 |
特に記載がない限り、データは標準状態(25 °C [77 °F]、100 kPa)の材料に関するものです。
インフォボックス参照
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ガリウム(II)テルル化物(GaTe)は、ガリウムとテルルの化合物である。GaTeや関連化合物が電子産業に応用される可能性があるため、その構造と電子特性に関する研究が行われている。ガリウムテルル化物は、元素を反応させるか、有機金属気相成長法( MOCVD)によって製造することができる。 [1]
これらの元素から生成される GaTe は単斜晶系の結晶構造をとる。各ガリウム原子は 3 つのテルル原子と 1 つのガリウム原子によって四面体配位されている。Ga 2単位におけるガリウム-ガリウム結合長は 2.43 オングストロームである。この構造は層からなり、Ga 2 4+ 2Te 2−と表される。[2]層内の結合はイオン共有結合であり、層間は主にファンデルワールス結合である。GaTe は層状半導体に分類される(同様の構造を持つ GaSe やInSeと同様)。これは室温で 1.65 eV のエネルギーを持つ直接バンドギャップ半導体である。[3]六方晶系は、低圧有機金属気相成長法( MOCVD)によってアルキルガリウムテルル化キュバン型クラスター、例えば (t-ブチルGa( μ 3 -Te)) 4から 生成できる。コアは8つの原子、4つのガリウム原子、4つのテルル原子からなる立方体です。各ガリウムにはt-ブチル基と3つのテルル原子が隣接しており、各テルルには3つのガリウム原子が隣接しています。六方晶系は単斜晶系と密接に関連しており、Ga 2 4+ユニットを含み、500℃でアニールすると単斜晶系に変換されます。[1]
参考文献
グリーンウッド、ノーマン N. ; アーンショウ、アラン (1997)。元素の化学(第 2 版)。バターワース-ハイネマン。ISBN 978-0-08-037941-8。
- ^ ab キューバンの前駆体からの六方晶系ガリウムセレン化物およびテルル化物膜の化学蒸着:分子制御の限界を理解する、EG Gillan および AR Barron Chem. Mater.、9 (12)、3037-3048、1997 年。
- ^ ガリウムのモノテルル、GaTe、Julien-Pouzol M.、Jaulmes S.、Guittard M.、Alapini F.、Acta Crystallographica B. Vol. 35、いいえ。 12、2848-2851ページ。 1979 年 12 月 15 日土井:10.1107/S0567740879010803
- ^ GaTe 層状結晶の非調和性、A. Aydinli、NM Gasanly、A. Uka、H. Efeoglu、Cryst. Res. Technol. 37 (2002) 12、pp. 1303–1309

