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350ナノメートルプロセス( 350 nm プロセス) は、 IntelやIBMなどの大手半導体企業によって 1995 年から 1996 年にかけて達成された半導体プロセス技術のレベルです。
例
- SGS-トムソン5LM [1]
350nm製造プロセスを採用した製品
- MTI VR4300 i (1995)、Nintendo 64ゲーム コンソールで使用されました。
- Intel Pentium ( P54CS、1995 年)、Pentium Pro (1995 年)、初期のPentium II CPU ( Klamath、1997 年)。
- AMD K5 (1996) およびオリジナルのAMD K6 (モデル 6、1997) CPU。
- МЦСТ-R150(2001年)。
- Parallax Propeller(2006)、8コアマイクロコントローラ。[2]
- Atmel ATmega328 、 Arduino UNOで使用。[3] [4]
- Nvidia RIVA 128 (1997) GPU
参考文献
- ^ RIVA 128 が Direct3D 開発者向けプラットフォームの推奨としてサポートされるようになりました。プレスリリース、Nvidia、2023 年 12 月 3 日にアクセス。
- ^ 「Propeller I 半導体プロセス技術? 350nm か 180nm か?」Parallax Forums。 2012 年 7 月 10 日時点のオリジナルよりアーカイブ。2015 年 9 月 13 日閲覧。
- ^ ペトリク、ドミトロ;ディカ、ゾーヤ(2018)。 「光欠陥注入: セットアップの比較」。S2CID 198917285。
{{cite journal}}:ジャーナルを引用するには|journal=(ヘルプ)が必要です - ^ Guillen, Oscar; Gruber, Michael; De Santis, Fabrizio (2017)。「ローカライズされた半侵襲性光フォールトインジェクション攻撃の低コスト設定: どこまで低くできるか?」建設的サイドチャネル分析とセキュア設計。コンピュータサイエンスの講義ノート。第 10348 巻。pp . 207–222。doi : 10.1007 /978-3-319-64647-3_13。ISBN 978-3-319-64646-6。
