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| 名前 | |||
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| IUPAC名
トリフルオロシラン
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| 識別子 | |||
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3Dモデル（JSmol）
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| ケムスパイダー |
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パブケム CID
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CompTox ダッシュボード ( EPA )
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| プロパティ | |||
| HF3Si | |||
| モル質量 | 86.09グラム/モル | ||
| 外観 | 無色のガス | ||
| 密度 | 1.86グラム/ cm3 | ||
| 融点 | −131 °C (−204 °F; 142 K) | ||
| 沸点 | −97.5 °C (−143.5 °F; 175.7 K) | ||
特に記載がない限り、データは標準状態（25 °C [77 °F]、100 kPa）の材料に関するものです。
インフォボックス参照
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トリフルオロシランは、化学式F 3 H Siで表される化合物です。標準温度および圧力では、トリフルオロシランは無色の気体です。[1]フリーラジカルF 3 Siはトリフルオロシランと呼ばれることもありますが、より正確にはトリフルオロシリルと呼ばれます。
準備
トリフルオロシランは低温高真空蒸留によって精製・分離されている。その製造方法の1つは、SbF 3とHSiCl 3の反応生成物を利用するものである。[2] HSiCl 3は、HClとシリコンを200～400℃で銅触媒反応させることによって得られる。
シリコンの特定のエッチング操作でも形成が報告されている。[3]
プロパティ
トリフルオロシランの電気双極子モーメントは1.26デバイである。[4]シリコンとフッ素の結合長は1.555Å、Si-H長は1.55Å、∠FSiFは110°である。[5]
参考文献
- ^ ペリー、デール L. (2011-06-15).無機化合物ハンドブック、第 2 版。CRC プレス。ISBN 9781439814628。
- ^ Zuckerman, JJ (2009-09-17).無機反応と方法、ハロゲンへの結合の形成。John Wiley & Sons。ISBN 9780470145388。
- ^ Lippold, Marcus; Böhme, Uwe; Gondek, Christoph; Kronstein, Martin; Patzig-Klein, Sebastian; Weser, Martin; Kroke, Edwin (2012 年 12 月)。「HF-HNO 3 -H 2 SO 4 /H 2 O 混合物によるシリコンのエッチング - トリフルオロシラン、ヘキサフルオロジシロキサン、および Si-F 表面基の前例のない形成」。European Journal of Inorganic Chemistry 。2012 ( 34 ) : 5714–5721。doi :10.1002/ejic.201200674。ISSN 1434-1948。2014年8月27 日閲覧。
- ^ Ghosh, SN; Trambarulo, Ralph; Gordy, Walter (1953年2月). 「Stark効果によるいくつかの分子の電気双極子モーメント」. The Journal of Chemical Physics . 21 (2): 308–310. Bibcode :1953JChPh..21..308G. doi :10.1063/1.1698877.
- ^ シェリダン、ジョン; ゴーディ、ウォルター (1950 年 3 月 1 日)。「トリフルオロシラン誘導体のマイクロ波スペクトルと分子定数。Si F 3 H、Si F 3 CH 3 、Si F 3 Cl、および Si F 3 Br」。Physical Review。77 ( 5 ) : 719。Bibcode : 1950PhRv...77..719S。doi :10.1103/PhysRev.77.719。