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| 業界 | 半導体 |
| 設立 | 1983年5月23日 |
| 本部 | 、 |
サービスエリア | 全世界 |
| 製品 | DRAM、パワーディスクリート集積回路、電源管理IC |
| Webサイト | モーゼル |
Mosel Vitelic Inc. は、パワー ディスクリート、パワー マネジメント IC、アナログ IC テクノロジを製造しています。Mosel Vitelic Inc. ( TWSE :2342)は、1995 年 9 月に台湾証券取引所に上場しました。
同社の製品には、パワーMOSFET、絶縁ゲート バイポーラ トランジスタ、ダイオード、アナログ IC、過渡電圧サプレッサ(TVS)、太陽エネルギー製品、ワイド バンドギャップ レイアウト製品、その他のコンポーネントやモジュールが含まれます。
同社は中国、ヨーロッパ、アメリカ、日本、韓国で製品を提供しています。
Mosel Vitelic Inc. は台湾の新竹に拠点を置いています。
歴史[1]
1983~91年: 歴史と法人化
- 1983 年 5 月 23 日、MOS Electronics Corp. が米国カリフォルニア州に設立され、その後 2 年間 (1984 ~ 1985 年) にわたって 16K/64K 技術を UMC に移転しました。
- 1986年には、日本の富士通、シャープと64K/256K CMOS SRAM技術の共同開発が行われ、また、64K/256K CMOS SRAM技術と製品の現代へのライセンス供与も行われました。
- 1987 年に Mosel Electronics Taiwan Inc. と Vitelic Corporation が合併して Mosel Taiwan Incorporated が設立されました。
- 1988 年、Mosel Taiwan Inc. は 1M CMOS SRAM テクノロジを開発しました。
- 1989年から1990年にかけて、R&Dビルが建設され、台湾で最初の高速CMOS SRAMの設計が実施され、TSMCとの0.8〜0.9ミクロンCMOS SRAMの共同開発、LATCH RAM、MUX RAM、ASM製品の開発、Mosel-USAとの合併が行われました。
Mosel Vitelic は 1991 年に設立され、法人化されました。
モーゼル・ヴィテリック株式会社

1985年、Mosel Vitelic Inc.はメモリ用集積回路の製造子会社であるMosel Vitelic Corporationを設立しました。同社は主にDRAMとフラッシュメモリを製造していました。同社は.12u/.14uプロセスを使用し、128Mb/256Mb SDR、DDR RAM、256Mb/512Mb DDR2 RAMを製造していました。[2]
2009年5月頃、親会社からの資金不足により同社は閉鎖した。
1991~95年: 上場と能力構築
- 1992年、Mosel VitelicはIVR 1M高速DRAMとMASK ROMを開発しました。
- 1993 年、Mosel Vitelic は 6インチ ウェーハ製造工場の建設に着手し、SEC は MVI を公開情報開示企業として上場しました。同年、同社は国立科学評議会NS C (現在は科学技術省として知られています)からVRAM助成金を受け取りました。
- 1994 年にサブミクロン ウェーハ製造プラントとパイロットが実施されました。
- 1995 年、Mosel Vitelic Inc. は 8 インチ ウェハ製造工場の起工式を開催しました。
1996年~現在: 新技術
- 1996 年、Mosel Vitelic Incorporated と Siemens は ProMOS Technologies, Inc. を設立することに合意しました。
- 1997年に日本のサムライ債が発行されました。
- 1998 年に、Mosel Vitelic Inc. と Siliconware の間で合弁会社 ChipMOS Technologies, Inc. が設立されることが発表されました。
- 1999 年、Mosel Vitelic Inc. は United Memories, Inc. の所有権を取得し、RWTUV QS 9000 認証を取得しました。
- 2000年、Mosel Vitelic Inc.とシャープ株式会社はDenMOS Technologiesを設立することに合意しました。また、InfineonとMosel Vitelicはライセンス契約を締結しました。Mosel Vitelic Inc.はRWTUV ISO-14001認証も取得しました。
- 2003年、Mosel Vitelic Inc.はISO/TS16949認証を取得し、DRAM市場から撤退しました。
- 2005 年、Mosel Vitelic Inc. は生産能力を月間 45,000 枚のウェハに拡大しました。
- 2006年、モーゼル・ヴィテリック社はITRIとRFID技術移転契約を締結し、月間6万枚のウェハー生産目標を掲げ、太陽電池とRFIDデバイスにおける新規事業活動を発表し、汎用DRAMの取引を中止した。ジャン=イヴ・デュテルはモーゼル・ヴィテリック社がケベックに工場を設立する計画を推進したが、最終的には失敗に終わった。[3]
- 2007年、Mosel Vitelic社は太陽電池生産ラインを完成させ、平均効率15.4%以上の量産体制に入りました。
参考文献
- ^ 「MOSEL VITELIC INC」。世界企業プロフィール。 2016年8月3日閲覧。
- ^ MVCウェブサイトの会社説明
- ^ ジェフ・ジェドラス、「モーゼルの物語:チップメーカーのモーゼル・ヴィテリックをカナダに誘致する試みは無駄な努力だった」 、 SVNカナダ、2001年3月、1ページ。
外部リンク
公式サイト
- モーゼル・ヴィテリック社の公式ウェブサイト
