希釈（方程式）

希釈とは、溶液中の溶質の濃度を下げるプロセスであり、通常は溶液に水を加えるなど、溶媒を増やすことによって行われます。溶液を希釈するとは、溶質を増やさずに溶媒を増やすことを意味します。こうして得られた溶液は、溶液のすべての成分が均一になるように十分に混合されます。

同様の直接的な関係は、例えば空気中に希釈された気体や蒸気にも当てはまります。ただし、気体や蒸気を完全に混合することは、必ずしも容易ではありません。

例えば、1リットルの水（溶媒）に10グラムの塩（溶質）が溶けている場合、この溶液の塩濃度（モル濃度）は一定です。この溶液にさらに1リットルの水を加えると、塩濃度は低下します。希釈された溶液にも、依然として10グラムの塩（0.171モルのNaCl）が含まれています。

数学的には、この関係は次の式で表すことができます。

$${\displaystyle c_{1}V_{1}=c_{2}V_{2}}$$

どこ

• c ₁ = 初期濃度またはモル濃度
• V1 =_初期体積
• c ₂ = 最終濃度またはモル濃度
• V2 =_最終体積

....

基本的な室内換気計算式は、産業衛生分野で用いられます。この計算式は、密閉空間に存在する既知の蒸気濃度を、より低い濃度まで低減するのに必要な時間を算出するものです。この計算式は、排出された蒸気またはガスが「清浄な」空気またはガスに置き換えられる場合にのみ適用できます。例えば、この計算式を用いることで、一定の換気量において、室内の高濃度の一酸化炭素を低減するのに必要な時間を算出できます。

$${\displaystyle D_{t}=\left[{\frac {V}{Q}}\right]\cdot \ln \left[{\frac {C_{\text{initial}}}{C_{\text{ending}}}}\right]}$$

この方程式は、次のように表記されることもあります。

$${\displaystyle \ln \left[{\frac {C_{\text{ending}}}{C_{\text{initial}}}}\right]\quad ={-}{\frac {Q}{V}}\cdot (t_{\text{ending}}-t_{\text{initial}})}$$どこ$t_{\text{initial}}=0$

• D _t = 所要時間。使用される時間の単位はQで使用されるものと同じです。
• V = 密閉空間または部屋の空気またはガスの体積（立方フィート、立方メートル、またはリットル）
• Q = 室内への、または室内からの換気量（立方フィート/分、立方メートル/時、またはリットル/秒）
• C_初期値= 室内の蒸気の初期濃度（ppm単位）
• C _final = 室内の蒸気の最終濃度（ppm）

基本的な室内パージ方程式は、パージシナリオにのみ使用できます。換気された室内で容器から液体が連続的に蒸発するシナリオでは、微分方程式を使用する必要があります。

$${\displaystyle {\frac {dC}{dt}}={\frac {GQ'C}{V}}}$$

ここで、換気率は混合係数Kによって調整されている。 $${\displaystyle Q'={\frac {Q}{K}}}$$

• C = 気体の濃度
• G = 生成率
• V = 室内容積
• Q ′ = 容積の調整済み換気率

溶接における希釈率は、溶融した母材の重量を溶接金属の総重量で割った値として定義されます。例えば、希釈率が0.40の場合、溶接金属のうち消耗電極由来の部分は0.60となります。

• 置換換気
• 反応速度
• 部分モル量
• 見かけのモル特性
• 過剰モル量
• 希釈熱

• http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/ja01320a004
• 簡単な希釈計算機