歴史 金属デバイスに機械的負荷を加えると電気抵抗が変化する現象は、1856年にケルビン卿 によって初めて発見されました。単結晶シリコンがアナログ回路や デジタル回路 の設計に最適な材料となるにつれ、シリコンとゲルマニウムにおける大きなピエゾ抵抗効果が1954年に初めて発見されました(Smith 1954)。[ 1 ]
機構 導電性および半導体材料では、歪みによって生じる原子間隔の変化がバンドギャップに影響を与え、電子が 伝導帯 に上昇しやすくなる(材料と歪みによっては上昇しにくくなる)。これにより、材料の抵抗率が変化する。ある一定の歪み範囲内では、この関係は線形であるため、ピエゾ抵抗係数は
ρ σ = ( ∂ ρ ρ ) ε \displaystyle \rho _{\sigma }={\frac {\left({\frac {\partial \rho }{\rho }}\right)}{\varepsilon }}} どこ
∂ρ = 抵抗 率 の変化ρ = 元の抵抗率ε = ひずみ定数である。
通常、金属の抵抗変化は、加えられた機械的応力によって生じる形状変化が主な原因です。しかし、これらの場合、圧抵抗効果は小さいものの、無視できないことがよくあります。無視できる場合は、オームの法則 から導出された単純な抵抗方程式を使用して計算できます。
R = ρ ℓ A {\displaystyle R=\rho {\frac {\ell }{A}}\,} どこ
ℓ {\displaystyle \ell } 導体の長さ[ m ] 電流の流れの断 面積 [ m² ] [ 2 ] : p.207 一部の金属は、形状による抵抗変化よりもはるかに大きな圧電抵抗を示します。例えば、白金合金では、圧電抵抗は形状による抵抗変化の2倍以上であり、形状による抵抗変化と相まって、ひずみゲージの感度は形状による抵抗 変化のみの場合の3倍以上にもなります。純ニッケルの圧電抵抗は-13倍も大きく、形状による抵抗変化を完全に凌駕し、符号さえも反転させます。
バルク半導体におけるピエゾ抵抗効果 半導体材料のピエゾ抵抗効果は、幾何学的効果よりも数桁大きい場合があり、ゲルマニウム 、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、炭化ケイ素 、単結晶シリコンなどの材料に見られます。そのため、非常に高い感度係数を持つ半導体ひずみゲージを作製できます。しかし、半導体ひずみゲージは一般的に環境条件(特に温度)に敏感であるため、精密測定においては金属ひずみゲージよりも取り扱いが難しくなります。
シリコンの場合、ゲージ係数は ほとんどの金属で観測される値よりも2桁大きいことがあります(Smith 1954)。n型伝導 シリコンの抵抗は、主に3つの異なる伝導バレー対のシフトによって変化します。このシフトにより、移動度の異なるバレー間でキャリアが再分配されます。その結果、電流の流れの方向に応じて移動度が変化します。わずかな影響は、バレーの形状の変化に関連する有効質量の変化によるものです。p 型伝導 シリコンでは、現象はより複雑で、質量の変化と正孔の移動も生じます。
微細加工された シリコン-アルミニウムハイブリッド構造において、圧電抵抗係数がバルク値を超える巨大圧電抵抗効果が報告されている。 [ 3 ] この効果はシリコンベースのセンサー技術に応用されている。[ 4 ]
ピエゾ抵抗型シリコンデバイス 半導体の圧電抵抗効果は、ゲルマニウム 、多結晶シリコン、アモルファスシリコン、単結晶シリコンなど、あらゆる種類の半導体材料を用いたセンサデバイスに利用されてきました。シリコンは現在、集積デジタル回路およびアナログ回路の主要材料であるため、圧電抵抗シリコンデバイスの利用は大きな注目を集めています。これにより、応力センサをバイポーラ回路やCMOS回路に容易に統合することが可能になります。
これにより、圧電抵抗効果を利用した幅広い製品が実現しました。圧力センサー や加速度 センサーなど、多くの商用デバイスがシリコン の圧電抵抗効果を利用しています。しかし、シリコンの圧電抵抗効果はその大きさから、単結晶シリコンを使用する他のすべてのデバイスの研究開発においても注目を集めています。例えば、半導体 ホールセンサーは 、印加された機械的応力による信号寄与を排除する方法を採用した後に初めて、現在の精度を達成できるようになりました。
ピエゾ抵抗器 ピエゾ抵抗器は、ピエゾ抵抗性材料で作られた抵抗器であり、通常は機械的応力 の測定に使用されます 。これらはピエゾ抵抗素子の中で最も単純な形態です。
製造 ピエゾ抵抗器は、 多種多様なピエゾ抵抗材料を用いて作製できます。ピエゾ抵抗シリコンセンサの最も単純な形態は、拡散抵抗器 です。ピエゾ抵抗器は、p型またはn型基板内に形成された、単純な2接点拡散n型またはp型ウェルで構成されています。これらのデバイスの典型的な二乗抵抗は数百オームの範囲であるため、追加のp+またはn+プラス拡散は、デバイスへのオーミック接触を容易にするための有効な手段となります。
シリコンnウェル圧電抵抗器の基本要素の概略断面図。
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