
フルオレニルメトキシカルボニル保護基(Fmoc)は、有機合成、特にペプチド合成で使用される塩基不安定アミン 保護基です[1] 。酸や加水分解に対する安定性と、ピペリジンなどの弱塩基による選択的な除去により、他のほとんどの保護基や敏感な官能基に影響を与えないことで人気があります。Fmoc保護は、固相ペプチド合成(SPPS)で特に有利であり、他の試薬との適合性と除去の容易さにより合成ワークフローが合理化されます。脱保護すると、Fmocは副産物(ジベンゾフルベン)を生成し、 UV分光法で監視できるため、効率的な反応追跡が可能です。[2]

保護と形成
Fmocカルバメートは、第一級および第二級アミンの保護基として頻繁に使用され、Fmoc基はアミンとフルオレニルメチルオキシカルボニルクロリド(Fmoc-Cl)との反応によって導入される。例:[3]
Fmoc基を導入する他の一般的な方法は、9-フルオレニルメチルスクシンイミジルカーボネート(Fmoc-OSu)を使用するもので、これはFmoc-ClとN-ヒドロキシスクシンイミドのジシクロヘキシルアンモニウム塩との反応によって得られる。[4]
重炭酸ナトリウムと水性ジオキサン中で9-フルオレニルメチルオキシカルボニルアジド(それ自体はFmoc-Clとアジ化ナトリウムの反応によって生成される)と反応させることも、Fmoc基を導入する方法である。[1] フルオレニル基は蛍光性が強いため、特定のUV不活性化合物を反応させて逆相HPLCによる分析に適したFmoc誘導体を得ることができる。クロマトグラフィーを使用しないFmoc-Clの分析用途は、蛍光分析の前に過剰なFmoc-Clを除去する必要があるという要件によって制限される可能性がある。
切断と脱保護
Fmoc基は塩基によって急速に除去される。ピペリジンはジベンゾフルベン副産物と安定な付加物を形成し、基質との反応を防ぐため、Fmoc基の除去には通常ピペリジンが好まれる。[5] [6]
ペプチド合成における役割
固相合成におけるN末端アミンの一時的な保護基としてのFmocの使用は、Fmoc/tBuアプローチで非常に広く行われている。これは、ピペリジンによるFmocの除去がペプチドと樹脂間の酸に不安定なリンカーを乱さないためである。[7]典型的なSPPS Fmoc脱保護は、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)中の20%ピペリジン溶液で行われる。[8]
- C 13 H 9 −CH 2 −OC(O)NHR + (CH 2 ) 5 NH → (CH 2 ) 5 NH+2 + [C 13 H 8 −CH 2 −OC(O)NHR] −
- [C 13 H 8 −CH 2 −OC(O)NHR] − → C 13 H 8 =CH 2 + − OC(O)NHR
- − OC(O)NHR + (CH 2 ) 5 NH+2 → HOC(O)NHR + (CH 2 ) 5 NH
- HOC(O)NHR → CO 2 + RNH 2
- C 13 H 8 =CH 2 + (CH 2 ) 5 NH → C 13 H 9 −CH 2 N(CH 2 ) 5
SPPS 中の Fmoc の一般的な脱保護カクテル
- DMF中の20%ピペリジン(Fmoc基はこの溶液中で約6秒の半減期を有する)[8]
- DMF中の5%ピペラジン、1% DBU、1%ギ酸。この方法では、厳密に管理されたピペリジンの使用を避けることができます。[9]この方法で合成された9残基のペプチドでは副産物は観察されませんでした。[10]
参考文献
- ^ ab Carpino, Louis A.; Han, Grace Y. (1972年11月). 「9-フルオレニルメトキシカルボニルアミノ保護基」. The Journal of Organic Chemistry . 37 (22): 3404–3409. doi :10.1021/jo00795a005. ISSN 0022-3263.
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