四塩化キセノン

四塩化キセノンは、化学式XeCl₄で表さ_れる不安定な無機化合物です^{[ 1 ]} 。他のほとんどの希ガス/ハロゲン化合物とは異なり、元素を単純に組み合わせたり、より活性なハロゲン化剤を使用したり、テトラハロキセノン化合物に他のハロゲンを置換したりして合成することはできません。代わりに、 K ¹²⁹ ICl₄から始まる崩壊法を使用できます_。129のヨウ素 129原子は^、ICl ^– ₄共有結合クラスターは放射性であり、ベータ崩壊を起こしてキセノン-129になる。^{[ 2 ] [ 3 ]}結果として生じるXeCl _{4分子は、四}フッ化キセノンに類似した正方形平面分子構造を持つ。^{[ 4 ]}

あるいは、元素に放電処理を施すことによっても生成物を得ることができる。^{[ 1 ]}

二臭化キセノンは、崩壊法によってのみ合成できるもう一つの希ガスハロゲン化物である。