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真空可変コンデンサは、空気や他の絶縁材料の代わりに高真空を誘電体として使用する可変コンデンサです。これにより、より小さな総体積で空気誘電体よりも高い定格電圧を実現できます[ 1 ] 。ただし、多くの誘電体は真空よりも高い絶縁破壊電界強度を持っています。テフロンは60～170 MV/m、溶融石英は470～670 MV/m 、ダイヤモンドは2000 MV/mであるのに対し、真空は20～40 MV/mです。真空可変コンデンサにはいくつかの異なる設計があります。最も一般的な形式は、電子管と同様に、ガラスまたはセラミックの真空エンベロープ内に収められた相互に噛み合った同心円筒です。金属製のベローズを使用して真空シールを維持しながら、コンデンサの可動部品の位置制御を可能にします。[ 2 ]
ジョー・エメット・ジェニングスは、 1940年にジェニングス・ラジオ・マニュファクチャリング社を設立した後、最初の実用的な真空可変コンデンサを開発した。[ 3 ] [ 4 ] [ 5 ] 1942年から市販されている。[ 1 ]
真空可変コンデンサは、5000ボルト（5 kV）以上の高電圧アプリケーションで一般的に使用されています。高出力放送送信機、アマチュア無線RFアンプ、大型アンテナチューナーなどの機器で使用されています。工業的には、プラズマ生成装置、誘電加熱、半導体製造で使用されています。 [ 1 ]現在の主な用途は、2～160 MHzのRFプラズマで、真空コンデンサは、チップやフラットパネルディスプレイの製造における自動整合ネットワークのインピーダンス可変部分として使用されています。
真空コンデンサの他の種類としては、固定値コンデンサがあり、これは可変値コンデンサと非常によく似た設計だが、調整機構が省略されている点が異なる。
他の可変コンデンサと比較すると、真空可変コンデンサはより高精度で安定している傾向があります。これは真空そのものによるものです。密閉されたチャンバーのおかげで、誘電率はより広い動作範囲で一定に保たれます。空気可変コンデンサの場合、電極板の周囲を流れる空気によって値がわずかに変化する可能性があります。多くの場合、その変化はわずかですが、用途によっては望ましくない影響を引き起こすのに十分な場合があります。
真空可変コンデンサは、一般的に空気可変コンデンサよりも高価です。これは主に、その設計と使用されている材料によるものです。ほとんどの真空可変コンデンサは銅とガラスを使用していますが、セラミックや金、銀などの金属といった他の材料を使用しているものもあります。また、真空可変コンデンサは調整機構も様々です。