ノボラック

ノボラック(またはノボラック) は、フェノールとホルムアルデヒドから得られる低分子量ポリマーです。これらは、より高度に架橋されたベークライトと関連があります。この用語は、スウェーデン語でラッカーを意味する「lack」とラテン語で新しいを意味する「novo」に由来しており、これらの材料はコーパル樹脂などの天然ラッカーの代替品として考えられたものです。

ノボラックは、通常、フェノールまたはp-クレゾールとm-クレゾールの混合物とホルムアルデヒド（ホルマリン）との縮合によって製造されます。反応は酸触媒です。シュウ酸は、その後熱分解によって除去できるため、よく使用されます。ノボラックの重合度は約20～40です。分岐密度は、処理条件、m-クレゾールとp-クレゾールの比率、およびCH ₂ O/クレゾールの比率によって決まり、通常約15%です。^[1]

ノボラックはマイクロエレクトロニクスにおいてフォトレジスト材料として特に重要であり、 ^[2]^[3]ゴムの粘着付与剤としても使用されている。

参照

参考文献

^ Ralph Dammel (1993). 「ノボラックの基礎化学」.ジアゾナフトキノン系レジスト. Int. Soc. 光工学. doi :10.1117/3.2265072.ch3. ISBN 9780819410191。
^ Hinsberg, WD; Wallraff, GM (2005). 「リソグラフィックレジスト」.カーク・オスマー化学技術百科事典. ニューヨーク: John Wiley. doi :10.1002/0471238961.1209200808091419.a01.pub2. ISBN 9780471238966。
^ Integrated Laboratory Systems (2006 年 1 月)。フォトレジストに使用されるジアゾナフトキノン誘導体の化学情報レビュー文書(PDF) (レポート)。国立毒性プログラム。

[1] Ralph Dammel (1993). 「ノボラックの基礎化学」.ジアゾナフトキノン系レジスト. Int. Soc. 光工学. doi :10.1117/3.2265072.ch3. ISBN 9780819410191。

[2] Hinsberg, WD; Wallraff, GM (2005). 「リソグラフィックレジスト」.カーク・オスマー化学技術百科事典. ニューヨーク: John Wiley. doi :10.1002/0471238961.1209200808091419.a01.pub2. ISBN 9780471238966。

[3] Integrated Laboratory Systems (2006 年 1 月)。フォトレジストに使用されるジアゾナフトキノン誘導体の化学情報レビュー文書(PDF) (レポート)。国立毒性プログラム。