2Dシリカ

2次元シリカ（2Dシリカ）は、二酸化ケイ素の層状多形です。六方晶対称性の2種類の2Dシリカが、これまでさまざまな金属基板上に成長してきました。1つはSiO ₄四面体をベースにしており、基板に共有結合しています。2つ目はグラフェンのような完全に飽和したシートで構成されており、弱いファンデルワールス結合を介して基板と相互作用します。2つ目の2Dシリカの種類の1つのシートは、六方晶二層シリカ（HBS ）とも呼ばれ、整列構造または無秩序（アモルファス）構造のいずれかになります。^[1]

2Dシリカは、最も薄いゲート誘電体として電子機器に応用できる可能性があります。また、グラフェンシートを基板から分離するためにも使用できます。^[1] 2Dシリカはワイドバンドギャップ半導体であり、そのバンドギャップと形状は外部電界によって設計できます。負のポアソン比を持つオーセチック材料ファミリーのメンバーであることが示されています。 ^[2]

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