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二ケイ化チタンは、チタンまたは水素化チタンとシリコンとの反応によって得られる。[ 2 ]
また、アルミニウム粉末、硫黄、二酸化ケイ素、二酸化チタンまたは六フッ化チタン酸カリウム、K 2 TiF 6を燃焼させることによるアルミ熱法、六フッ化チタン酸カリウムと二酸化チタンの融解物の電気分解、またはチタンと四塩化ケイ素の反応によって製造することも可能である。[ 2 ]
別の方法としては、四塩化チタンとシラン、ジクロロシラン、またはシリコンとの反応がある。[ 3 ]
チタンシリサイドは半導体産業で用いられています。一般的には、シリコンやポリシリコン配線上にサリサイド技術を用いて成長させ、トランジスタの局所接続部のシート抵抗を低減するために利用されます。マイクロエレクトロニクス産業では、通常C54相で使用されます。