オフアクシス照明

フォトリソグラフィーにおいて、オフアクシス照明とは、入射光がフォトマスクに対して垂直ではなく斜めの角度で入射する光学系構成のことである。つまり、入射光は光学系の軸と平行ではない。^{[ 1 ]}

オフアクシス照明の利点は、フォトマスク上のパターンが小さなピッチの回折格子である場合に説明できます。回折格子に入射した光は、さまざまな方向に回折されます。光が通常の角度（光学系の軸に沿った角度）で回折格子に入射する場合、0次回折光は（影響を受けずに回折格子を通過するかのように）光学系の軸に沿って伝搬し続けますが、他の回折次数は横方向に回折され、回折格子のピッチが小さくなるにつれて角度のずれが大きくなります。 （言い換えれば、回折格子の構造が細かいほど、非ゼロの回折次数を持つ光は、回折格子の光軸に対してより大きな角度で回折格子から伝搬します。）十分に小さなピッチの場合、投影レンズ（フォトマスク上のパターンをウェハ上のフォトレジスト層に結像するリソグラフィ装置の光学部品）を通過できるのは0次回折光のみであり、他の次数はレンズのサイズ制限（サイズが大きくなるにつれて製造コストが上昇する）のために失われます。その結果、0次回折光にはフォトマスクパターンの平均しか含まれていないため、ウェハ上にパターンは形成されません。^{[ 2 ]}

オフアクシス照明（つまり、光がマスクを斜めの角度で照射する）を行うことで、マスクからのすべての回折次数が傾き、高次の回折次数が投影レンズを通過してマスクの像をウェハ上に形成する可能性が高くなります。^{[ 3 ]}