クリス・マック（科学者）

クリス・マック（1960年頃生まれ）はフォトリソグラフィーの専門家です。 1982年にローズハルマン工科大学で複数の学士号を取得し、1989年にメリーランド大学カレッジパーク校で電気工学の理学修士号を取得し、 1998年に テキサス大学で化学工学の博士号を取得しました。

彼は、 NSAのマイクロエレクトロニクス研究所で働いているときにリソグラフィーに精通しました。Sematech への配属後、NSA を辞め、FINLE Technologies (1990) を設立し、フォトリソグラフィーの光学的および化学的側面をモデル化するために開発したシミュレーターPROLITH を商品化しました。FINLE Technologies は、現在 PROLITH を販売しているKLA-Tencorに 2000 年 2 月に買収されました。

2017 年に、半導体製造プロセスにおける確率的影響をモデル化するソフトウェア製品 MetroLER を提供するために、Fractilia, Inc. を共同設立しました。現在は Fractilia の CTO を務めています。

彼は現在、テキサス大学オースティン校の非常勤講師を務めており、「Lithography Expert」という季刊コラムを執筆しています。

2003 年、彼は北米で半導体製造装置材料協会のSEMI 賞を受賞しました。2005 年には、SPIE マイクロリソグラフィー カンファレンスで第 1 回クリス マック ローストのテーマに選ばれました。2009 年には、 SPIEアドバンスト リソグラフィー シンポジウムでマイクロリソグラフィーのフリッツ ゼルニケ賞を受賞しました。

• 「クリス・マックがDFMスタートアップの技術諮問委員会に参加」EE Times 2005年9月14日2011年3月25日閲覧。
• 「SPIE Taps '09 Award Winners」。Photonics.com。2009 年 4 月 23 日。2011 年3 月 25 日閲覧。
• 「SPIE が Chris Mack 氏を「Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS」の編集者に任命」SPIE 2011 年 2 月 17 日2011 年3 月 25 日閲覧。
• マック、クリス（ 2008年1月22日）。『光リソグラフィーの基本原理：マイクロファブリケーションの科学』。ウェスト・サセックス、イギリス：ジョン・ワイリー・アンド・サンズ。ISBN 978-0-470-72730-0。

• クリス・マックの個人ウェブサイト
• KLA-Tencor の PROLITH は 2010-02-06 にWayback Machineでアーカイブされています
• フラクティリア