シルビア・T・セイヤー

シルビア・テレッセ・セイヤーは、MITの化学教授であり、ジョン・C・シーハン化学教授を務めています。2006 年まで、彼女は米国科学アカデミーの化学教授を務めていました。

セイヤーは1974年にミシガン州ホランドのホープ大学で化学の学士号を取得しました。^[1] 1979年にカリフォルニア大学バークレー校で化学の博士号を取得しました。指導教官はYTリーとガボール・ソモルジャイでした。1979年から1981年まで国立標準技術研究所（現在の国立標準技術研究所）で博士研究員を務めました。

セイヤー氏は1981年にMITの教授陣に加わり、1987年に終身在職権を得た。

1994年、セイヤーはMIT理学部の女性教員16人のうちの1人で、当時の理学部長（現バークレー校学長）ロバート・バージェノーに宛てた手紙を起草し、共同署名した。この手紙は、MITにおける性差別を浮き彫りにし、それに挑戦するキャンペーンを開始した。^[2]

2004年、MITは新学長の選考を行っており、彼女はMITコーポレーションの教職員諮問委員会に任命された。同コーポレーションは、イェール大学の神経生物学者スーザン・ホックフィールドをMITの次期学長に選んだ。

翌年、彼女はMITの化学部門の副部長に任命された。

2010年7月1日、彼女は化学科長に就任し、「歴代の著名な学科長や教授陣によって築かれた、優れた化学研究と教育に対する化学科の取り組みをさらに推進することが私の目標です」と語った。^[3]

セイヤーは物理化学者であり、主な研究対象は分子と表面の相互作用です。この研究は超高真空環境で行われます。そうしないと、周囲のガスや液体が研究対象の表面を変化させてしまうからです。これにより、対象となる反応種とプロセスを明確に特定できます。これらの表面は、ナノメカニカル デバイスのテンプレートや化学反応の触媒として使用できます。彼女の研究の中心テーマは、いわゆる「圧力ギャップ」、つまり高圧下で起こる反応と超高真空条件下で観察される反応の欠如との間に見られる差異を理解することです。

表面科学に対する彼女の貢献には、表面での衝突誘起過程の発見が含まれます。この過程では、高エネルギーの中性希ガス原子が吸着質であらかじめ覆われた表面に衝突し、表面と吸着質の間で反応が起こります。観察された反応には、解離、脱着、基板のバルクへの吸収などがあります。さらに、彼女は、電子エネルギー損失分光法を使用して基板のバルクに吸収された種を検出し、バルクと表面の種を区別できることを発見しました。これが、ニッケルサンプルのバルクに吸収された水素原子が不飽和炭化水素の水素化における重要な反応物であるという彼女の発見への道を開きました。もう 1 つの大きな発見は、シリコン表面とフッ素分子の反応 (半導体デバイスのエッチングの鍵となる反応) で、シリコン表面が入射したフッ素分子からフッ素原子を抽出し、残りのフッ素原子がガス相に散乱します。これは、ガス表面化学反応の基本的なメカニズムの 1 つである Eley-Ridealメカニズムの逆です。

セイヤー氏は、化学のジョン C. シーハン教授職に就く前、1985 年から 1988 年まで 1943 年卒のキャリア開発教授職を務め、1991 年から 1996 年まで WM ケック財団のエネルギー教授職を務めました。

1988年、彼女はハロルド・E・エドガートン賞、学部教育における優秀賞であるベーカー記念賞、アメリカ大学女性協会の若手研究者賞を受賞しました。1993年、セイヤーはアメリカ化学会からノーベル賞受賞者シグネチャー賞と理学部教育賞を 受賞しました。彼女は1998年にマクヴィカー教員フェローでした。

セイヤー氏は、米国科学アカデミー、アメリカ物理学会、アメリカ芸術科学アカデミーの会員です。アメリカ化学会のラングミュア講演者、ウェルチ財団講演者を務めています。

彼女は、不均一触媒に関する研究により、2007 年 5 月 26 日に ウィラード ギブス賞を受賞しました。

• Lahr, DL; ST Ceyer (2006). 「拡張 Au/Ni 表面合金による 70 K での触媒 CO 酸化」J. Am. Chem. Soc . 128 (6): 1800–1801. doi :10.1021/ja053866j. PMID  16464073.
• Holt, JR; RC Hefty; MR Tate; ST Ceyer (2002). 「XeF ₂および F ₂とSi(100)2x1 との相互作用の比較」J. Phys. Chem. B . 106 (33): 8399–8406. doi :10.1021/jp020936p.
• Ceyer, ST (2001). 「表面下の水素のユニークな化学: 炭化水素の触媒水素化」. Acc. Chem. Res . 34 (9): 737–744. doi :10.1021/ar970030f. PMID  11560473.
• Tate, MR; DP Pullman; YL Li; D. Gosalvez-Blanco; AA Tsekouras; ST Ceyer (2000 年 3 月 15 日). 「Si(100) によるフッ素原子抽出: II. モデル」. J​​. Chem. Phys . 112 (11): 5190–5204. Bibcode :2000JChPh.112.5190T. doi :10.1063/1.481092. S2CID  96179157.
• Tate, MR; DB Gosalvez; DP Pullman; AA Tsekouras; YL Li; JJ Yang; KB Laughlin; SC Eckman; MF Bertino; ST Ceyer (1999). 「Si(100) によるフッ素原子抽出: I. 実験」. J. Chem. Phys . 111 (8): 3679. Bibcode :1999JChPh.111.3679T. doi :10.1063/1.479677.
• Haug, KL; T. Bürgi; TR Trautman; ST Ceyer (1998)。「アセチレンの触媒水素化における表面結合 H とバルク H の独特な反応性」。J. Am. Chem. Soc . 120 (34): 8885. doi :10.1021/ja9819615。
• Li, YL; DP Pullman; JJ Yang; AA Tsekouras; DB Gosalvez; KB Laughlin; Z. Zhang; MT Schulberg; DJ Gladstone; M. McGonigal; ST Ceyer (1995). 「解離化学吸着の新しいメカニズム: Si(100) による F ₂からの原子抽出」. Phys. Rev. Lett . 74 (13): 2603–2606. Bibcode :1995PhRvL..74.2603L. doi :10.1103/PhysRevLett.74.2603. PMID  10057969.
• Johnson , AD; SP Daley; AL Utz; ST Ceyer (1992 年 7 月)。「バルク水素の化学: Ni に埋め込まれた H と吸着した CH ₃との反応」。Science。257 (5067): 223–225。Bibcode : 1992Sci ...257..223J。doi : 10.1126 /science.257.5067.223。PMID 17794753。S2CID  206574925  。
• Johnson, AD; KJ Maynard; SP Daley; QY Yang; ST Ceyer (1991 年 8 月 12 日)。「Ni に埋め込まれた水素: 入射原子水素による生成と高解像度電子エネルギー損失による検出」。Phys . Rev. Lett . 67 (7): 927–930。Bibcode :1991PhRvL..67..927J。doi :10.1103 / PhysRevLett.67.927。PMID 10045024  。
• Ceyer, ST (1990 年 7 月). 「表面における化学の新しいメカニズム」. Science . 249 (4965): 133–139. Bibcode :1990Sci...249..133C. doi :10.1126/science.249.4965.133. PMID  17836965. S2CID  42965193.
• Beckerle, JD; AD Johnson; QY Yang; ST Ceyer (1989)。「不活性ガス原子によるNi(111)上のCH _4の衝突誘起解離化学吸着：ハンマーによる化学反応のメカニズム」。J . Chem. Phys . 91 (9): 5756。Bibcode : 1989JChPh..91.5756B。doi :10.1063/1.457529。

• MIT の Sylvia Ceyer のホームページ
• MIT 化学学部ホームページ
• 5.112 シルビア・セイヤー教授とクリストファー・カミンズ教授による化学科学の原理のビデオ講義
• フェニックスS&T社：STセイヤー博士（MIT）とGWパーシャル博士（デュポン社科学ディレクター、退職）が科学諮問委員会に加わる