ポール・フース

ポール・ヘンリー・フースは、 X 線散乱の研究と材料物理学へのその応用を専門とするアメリカの物理学者です。

フーオスはフロイドとシルビア・フーオスの両親のもとに生まれ、サウスダコタ州で育ち、スピアーズ・ルーラル・スクールに通い、その後ドレイパーのドレイパー高校、ピエールのTFリッグス高校に通った。フーオスはサウスダコタ鉱山技術学校を卒業し、スタンフォード大学で博士号を取得した。^[1]

フーオスはベル研究所、AT&T研究所、アルゴンヌ国立研究所で働き、^[2]その後、 2017年にスタンフォード大学に戻り、 SLAC国立加速器研究所の著名な科学者となった。^{[1] [2]} AT&T研究所在籍中、フーオスは1999年に「非晶質材料の異常散乱、表面上の単分子層を研究するための斜入射散乱、化学蒸着中のその場散乱など、X線散乱の科学への先駆的な貢献」によりアメリカ物理学会のフェローに選出された。^[3]