ナノ・マイクロデバイスセンター

ナノ・マイクロデバイスセンター

タイプ	研究センター
設立	2008
会長	ロバート・リンドクイスト
監督	ジョン・D・ウィリアムズ
教員	10
管理スタッフ	6
大学院生	16
位置	アラバマ州ハンツビル 、 アメリカ合衆国 北緯34°43′22″ 西経86°38′19″ / 北緯34.72278° 西経86.63861° / 34.72278; -86.63861
キャンパス	アラバマ大学ハンツビル校メインキャンパス
Webサイト	翻訳元

ナノ・マイクロデバイスセンター(NMDC) は、アラバマ大学ハンツビル校にある研究センターです。このセンターは、大学のナノテクノロジー研究の中核を担っています。レベル 4 のクリーンルームと、その他のいくつかの研究施設を 運営しています。

センターの目的は、電気、化学、材料工学、生物学、化学、物理学の専門知識を効果的に統合し、微小電気機械システム（MEMS）とナノテクノロジーの分野における開発と研究を行うことです。^{[1] [2]}

センターは、薄膜堆積、フォトリソグラフィー、ドライエッチングとウェットエッチング、計測測定を行う微細加工機を備えたクリーンルームを運営しています。また、ウェットエッチング、電気メッキ、多孔質シリコン製造用の暗室も運営しています。この施設は、アラバマ州北部に拠点を置く組織によって利用されています。このようなクリーンルームレベルで実行されるプロセスは、次のように分類できます。^[3]

• リソグラフィ: このカテゴリのプロセスには、従来の UV リソグラフィ技術、電子ビーム リソグラフィ、および投影リソグラフィが含まれます。
• 材料堆積プロセス: このカテゴリには、スパッタリング、熱蒸着、電気メッキのプロセスが含まれます。生物学的分子や二重膜を堆積するその他の技術には、ラングミュア・ブロジェット技術が含まれます。
• 材料除去プロセス: 反応性イオンエッチングなどのドライエッチング、または KOH 浴でのシリコンの異方性エッチングなどのウェットエッチングが含まれます。
• 表面分析および特性評価: 原子間力顕微鏡、走査型電子顕微鏡、共焦点顕微鏡、偏光解析法、UV、IR、ラマン分光法、X 線分光法などの技術。
• コンピューティング