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分子蒸着法 [1] [2]は、表面反応性化学物質と適切に受容する表面との間の気相反応である。分子の一方の末端が反応性である二官能性シランがしばしば使用される。例えば、官能性クロロシラン(R-Si-Cl 3 ) は表面のヒドロキシル基 (-OH)と反応し、表面にラジカル化 (R) 沈着をもたらす。同等の液相プロセスに対する気相反応の利点は、周囲環境からの水分を制御できることであり、その結果、シランの交差重合が起こり、処理された表面に粒子が生じることが多い。多くの場合、加熱された大気圧未満の真空チャンバー[3]を使用して、反応物と水分含有量を正確に制御できる。さらに、気相プロセスでは、反応物の被覆が一般に拡散制限されるため、複雑な部品の処理が容易になる。微小電気機械システム ( MEMS ) センサーでは、表面間の相互作用に関連する スティクションやその他の寄生問題に対処する技術として、分子蒸着がよく使用される。
参考文献
- ^ Jeff Chinn、Boris Kobrin、Victor Fuentes、Srikanth Dasaradhi、Richard Yi、Romuald Nowak、Robert Ashurst、Roya Maboudian、「分子蒸着法(MVD) - ナノ加工デバイスの表面改質のための新しい方法」、Hilton Head 2004:固体センサー、アクチュエーター、マイクロシステムワークショップ、2004年6月6日~10日
- ^ B. Kobrin、WR Ashurst、R. Maboudian、V. Fuentes、R. Nowak、R. Yi、J. Chinn、「表面改質のMVD技術」、AICHE年次会議2004、11月8日、テキサス州オースティン
- ^ 「RGM-210 コーティング システム」。2015 年 11 月 15 日時点のオリジナルよりアーカイブ。2015 年 7 月 12 日閲覧。
