マスク検査

マイクロテクノロジーにおいて、マスク検査またはフォトマスク検査は、例えば半導体デバイスの製造に使用される製造されたフォトマスクの正確さをチェックする操作である。^[1]

フォトマスクの欠陥を見つけるための現代の技術は、走査型電子顕微鏡やその他の高度なツールを含む自動化システムです。^[2]

「マスク検査」という用語は、非公式には、実際のマスクを実際に書き込む前に実行されるマスクデータ検査ステップを指すこともあります。 ^[3] その他の検査方法では、Probing Solutions Inc. から入手できるような特別に構築された光学顕微鏡システムを使用します。これらは、通常約 538 nM で最適化された白色光に依存し、入射明視野と暗視野、透過明視野と暗視野の照明を使用して、ピンホール、エッジ欠陥、およびさまざまな形の汚染や基板欠陥を確認します。