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ガス放電ランプ内には低圧放電が存在します。ガス内の電気放電は、数ミリトルから大気圧よりわずかに低いガス圧下で発生します。
説明
これらは、プラズマを生成するために産業界でよく使用されます。低圧では体積再結合率が低いため、放電を維持するために必要な電力が少なくて済みます。また、低圧では均一な放電を実現するのも簡単です。
通常、システムはポンプダウンされ、必要なプラズマガスのみがプラズマチャンバーに流入します。アルゴンはイオン化ポテンシャルが低いため、分解しやすく維持しやすいため、典型的なバックグラウンドガスです。
半導体産業で使用される放電のほとんどは低圧プラズマを採用しています。
参照
参考文献
