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レナード・セシル・フェルドマン(1939年6月8日、ニューヨーク市生まれ)は、アメリカの材料物理学者です。
1961年にドリュー大学で学士号を取得し、 1967年にラトガース大学で博士号を取得。その後AT&Tベル研究所に入社し、半導体材料物理学に取り組んだ。1996年にヴァンダービルト大学のスティーブンソン物理学教授およびオークリッジ国立研究所の特別客員科学者に就任した。[1] [2]
彼の研究は、固体の研究と改質のためのイオンビームの使用に焦点を当てており、主に半導体である固体の表面構造を単層レベルで研究しています。彼の現在の関心は、ナノ構造と有機材料に対するイオンビームの効果に関するものです。
彼は2016年に「MOS技術の半導体-誘電体界面への貢献」により電気電子学会(IEEE)フェローに任命された。 [3]
参考文献
- ^ 「レナード・フェルドマン」。2017年4月27日閲覧。
- ^ 「Leonard C. Feldman」. rutgers.edu . 2017年4月27日閲覧。
- ^ 「2016 elevated fell」(PDF)。IEEE Fellows Directory 。 2016年1月14日時点のオリジナル(PDF)からアーカイブ。2019年9月10日閲覧。
