Gopal. T. および JB Talbot、「CMP スラリーの化学組成がアルミナ研磨材のゼータ電位に及ぼす影響」、Journal of The Electrochemical Society、153、G622 (2006)。[ 4 ]
Inhfeldt, R および JB Talbot、「銅 CMP スラリーの化学組成がアルミナ研磨材のコロイド挙動に及ぼす影響」、Journal of The Electrochemical Society、153、G948 (2006)。[ 4 ]
B. Han、K. Mishra、M. Raukas、K. Klinedinst、J. Tao、および JB Talbot、「AlN 中の Dy3+ からの発光の調査」、Journal of The Electrochemical Society、154 (1)、J44 –J52、2007 年。[ 4 ]
J. Lee、JB Talbot、「回転円筒電極上での電気共析のモデル」、Journal of The Electrochemical Society、154 (2)、D70-D77、2007年。[ 4 ]
T. Gopal、JB Talbot、「CMPにおける材料除去速度のモデリングにおけるスラリーコロイド挙動の使用」、Journal of The Electrochemical Society、154 (6)、H507-H511、2007年。[ 4 ]
S. Quale、および JB Talbot、「基板に垂直に配向した単層カーボンナノチューブ構造の電気泳動堆積」、Journal of The Electrochemical Society、154 (8)、K25-K28、2007 年、また、Virtual Journal of Nanoscale Science & Technology の 2007 年 6 月 11 日号。[ 4 ]
SJ Osborne、WS Sweet、KS Vecchio、およびJB Talbot、「衝突ジェット電極による銅-アルミナナノ複合膜の電気めっき」、Journal of The Electrochemical Society、154 (8)、D394-D399、2007年。また、Virtual Journal of Nanoscale Science & Technologyの2007年6月25日号にも掲載。[ 4 ]
B. Han、M. Raukas、K. Klinedinst、J. Tao、JB Talbot、K. Mishra、「AlN粉末中のTm3+、Tb3+、Eu3+からの発光の研究」、Journal of The Electrochemical Society、154 (9)、J262 –J266、2007年。[ 4 ]
D. Thiemig、JB Talbot、A. Bund、「衝突ジェット電極を用いたニッケルナノコンポジットの電気共析」、Journal of The Electrochemical Society、154 (10)、D510-515、2007年。[ 4 ]
R. Inhfeldt および JB Talbot、「銅ナノ粒子を含むアルミナスラリーのコロイド挙動を用いた銅 CMP のモデリング」、Journal of The Electrochemical Society、154 (12)、H1018-H1026 (2007)。[ 4 ]
N. Perea-Lopez、JH Tao、J. McKittrick、JB Talbot、M. Raukas、J. Laski、KC Mishra、G. Hirata、「パルスレーザー堆積法によりサファイア上に成長させたEu 3+活性化GaN薄膜」、Physica Status Solidi C、5、No. 6、1756–1758 (2008)。[ 4 ]