静電噴霧蒸着

静電噴霧蒸着法（ESAVD ）は、さまざまな基板に薄い層と厚い層の両方のコーティングを堆積させる技術（IMPTという会社によって開発）です。簡単に言えば、化学前駆物質が静電場を横切って加熱された基板に向かって噴霧され、化学物質は制御された化学反応を起こし、必要なコーティングとして基板上に堆積します。静電噴霧技術は、イオン化された粒子を帯電または加熱された基板に噴霧するために1950年代に開発されました。^[1]

ESAVD (IMPT では Layatec というブランド名) は、以下を含む多くの市場のさまざまなアプリケーションに使用されています。

• ジェットエンジンタービンブレード用遮熱コーティング
• フラットパネルディスプレイや太陽光発電パネル、CIGS および CZTS ベースの薄膜太陽電池の製造におけるさまざまな薄層。
• 電子部品
• バイオメディカルコーティング
• ガラスコーティング（セルフクリーニングなど）
• 腐食防止コーティング

このプロセスは、真空、電子ビーム、プラズマを使用する必要がないため製造コストが削減されるという点で、他の層堆積技術 (プラズマ、電子ビーム) に比べて優れています。また、使用する電力と原材料も少なく、環境に優しいプロセスです。さらに、静電場を使用するため、複雑な 3D パーツを簡単にコーティングできます。

• 「Kwang-Leong Choy – 厚いものにも薄いものにも重ねる」。Materials World 2003 年 6 月。静電噴霧蒸着法 (ESAVD) は、 1998 年 3 月にMaterials Worldで初めて報告された、フィルムやナノ結晶粉末を製造する方法です。発明者が進行中の進歩について説明します。
• Choy, KL、「プロセス原理と新しいコスト効率の高い ESAVD ベースの方法の応用」、Innovative Processing of Films and Nanocrystallistic Powders、KL Choy 編 (World Scientific Publishing Company)、2002 年、15 ～ 69 ページ。ISBN 1-86094-316-0 。
• Choy, KL、「処理方法の進歩のレビュー: フィルムとナノ結晶粉末」、Innovative Processing of Films and Nanocrystallized Powders、Choy, KL 編 (Imperial College Press)、2002 年、1 ～ 14 ページ。ISBN 1-86094-316-0 
• Choy,KL,材料科学の進歩、48、57(2003)。
• Choy, KL、「ナノ構造材料の蒸気処理」、ナノ構造材料とナ​​ノテクノロジーハンドブック、Nalwa , HS 編 (Academic Press) 2000、533。ISBN 0-12-513760-5。Choy , KL、Feist, JP、Heyes, AL、Su, B.、J. Mater. Res. 14 (1999) 3111。 
• Choy, KL、「ESAVD 法を使用した革新的でコスト効率の高いコーティングの堆積」、Surface Engineering、16 (2000) 465。
• R. Chandrasekhar および KL Choy、「静電噴霧によるフッ素ドープ酸化スズの蒸着」、Journal of Crystal Growth、231 (1–2) (2001) 215。